[实用新型]可钢化双银复合结构低辐射镀膜玻璃有效
申请号: | 200920068698.5 | 申请日: | 2009-03-11 |
公开(公告)号: | CN201376937Y | 公开(公告)日: | 2010-01-06 |
发明(设计)人: | 王茂良;吴斌;李志军;顾云;葛建军;徐佳霖;黄一波;方志坚 | 申请(专利权)人: | 上海耀华皮尔金顿玻璃股份有限公司;上海耀皮工程玻璃有限公司;上海耀皮建筑玻璃有限公司;天津耀皮工程玻璃有限公司 |
主分类号: | C03C17/36 | 分类号: | C03C17/36;B32B9/04;B32B17/06 |
代理公司: | 上海东亚专利商标代理有限公司 | 代理人: | 罗习群 |
地址: | 200126*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 可钢化双银 复合 结构 辐射 镀膜 玻璃 | ||
技术领域:
本发明涉及一种镀有双银层、复合电介质层及吸收层, 具有高效遮阳性能并且能够实现可钢化加工的低辐射镀 膜玻璃。
背景技术:
可钢化双银结构的镀膜玻璃,是在玻璃表面镀制包括 双银层在内的多层金属或其他化合物组成的具有良好性 能和可钢化加工能力的膜系产品。由于采用双银层结构 使得该产品对可见光有较高的透射率的同时保有良好的 隔热性能和遮阳性能,并且设置复合结构的多重金属化 合层的长路径确保银层稳定来实现镀膜后的钢化再加 工。
采用真空磁控溅射法生产普通双银结构低辐射玻璃 的膜层结构一般为:玻璃/基层电介质层/银层/阻隔层/中层 电介质层/银层/阻隔层/顶层电介质层。
基层电介质层的材料一般为金属或非金属的氧化物或 氮化物,如SnO2,ZnO,Nb2O5,TiO2,Si3N4等;
阻隔层一般为NiCr或者NiCrOx;
中层和顶层电介质层的材料一般为金属或非金属的氧 化物或氮化物,如SnO2,ZnO,Nb2O5,TiO2,Si3N4等
但是,在上述这种传统结构的双银低辐射玻璃加工中, 只能对玻璃采用先钢化再镀膜的加工方式,这是因为:
1.先镀膜后钢化,加热过程中玻璃中含有的纳离子等 物质活性增强会渗透到膜系中,破坏电介质层和银 层;
2.先镀膜后钢化,银层中的银粒子会受热迁移,凝聚, 产生雾化现象;
3.先镀膜后钢化,热环境下氧气容易渗过化合物保护 层,使银层部分或者全部氧化。
钠离子的渗入,银粒子凝聚和银层氧化,会使镀膜玻 璃产生斑点,雾化,降低低辐射性能。
随着现代建筑的发展,出于美观节能等考虑,普通的 单银结构的可钢化低辐射镀膜玻璃在光学性能上已经不能 够满足客户和设计师的要求,而越来越多的要求双银低辐 射玻璃在镀膜后也可以进行钢化处理工艺。
发明内容
本发明的目的在于,生产出来的双银低辐射玻璃,在 镀膜后可以进行钢化处理工艺,而不影响产品的质量;利 用双极脉冲电源溅射技术生产的Si3N4作为基层电介质层, 辅以陶瓷ZNO的吸收层组成2层复合电介质层(基层和中 间层),合理选择其他各层的厚度和膜层成分,生产出可以 进行高温热处理的低辐射镀膜玻璃。
该玻璃的膜层结构自玻璃向外层依次为:玻璃、包含 吸收层的基层复合电介质层、银层、阻隔层、包含吸收层 的中层复合电介质层、银层、阻隔层、顶层电介质层;其 中:
包含吸收层的基层复合电介质层为:氮化硅Si3N4+ 氧化锌ZnO镀层,其总膜层厚度为5nm~75nm;
银层Ag:膜层厚度为2nm~25nm;
阻隔层一般为NiCr,NiCrOx,Ti,Cr或其他金属元素:
膜层厚度为0~30nm;
包含吸收层的中层复合电介质层可以为:氮化硅 Si3N4,或氧化锡SnO2,或氧化钛TiO2,或氧化铌Kb2O5, 或氧化锌锡ZnSnOx,或氧化锌ZnO材料中的一种或者 几种组合构成,其总膜层厚度为10nm~200nm;
顶层电介质层为:金属或者非金属的氧化物或氮化物, 氮化硅Si3N4,或氧化锡SnO2,或氧化钛TiO2,或氧化 铌Kb2O5,或氧化锌锡ZnSnOx,膜层厚度为10nm~ 100nm。
本发明优点是在于,生产出来的双银低辐射玻璃, 在镀膜后可以进行高温钢化处理工艺热处理,而不影响产 品的质量。
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