[发明专利]一种铝基柔性电磁屏蔽复合材料的制备工艺

权利要求书

1.一种铝基柔性电磁屏蔽复合材料的制备工艺，其特征是步骤如下：

(1)采用厚度40微米以下的工业轧制成卷的铝箔作为基体，直接将铝箔卷辊装入真空溅射镀膜室；

(2)将上述基体在真空室内对铝箔基体两面进行离子轰击溅射，去除基体表面的氧化膜；

(3)在上述去除氧化膜的基体上溅射沉积Fe₇₈Si₉B₁₃或Fe_73.5Nb₃Cu₁Si_13.5B₉合金，并形成纳米晶膜；所述的溅射沉积Fe₇₈Si₉B₁₃或Fe_73.5Nb₃Cu₁Si_13.5B₉合金膜细分为两步：以Fe₇₈Si₉B₁₃或Fe_73.5Nb₃Cu₁Si_13.5B₉合金为靶材，首先分别产生基体-棒状阳极和靶-棒状阳极两个辉光放电场，形成溅射离子镀，在步骤(2)去除氧化膜的铝箔基体两个表面上溅射离子镀沉积Fe₇₈Si₉B₁₃或Fe_73.5Nb₃Cu₁Si_13.5B₉合金膜；然后仅使靶-棒状阳极间产生辉光放电，形成单纯溅射镀膜，在前面溅射离子镀的Fe₇₈Si₉B₁₃或Fe_73.5Nb₃Cu₁Si_13.5B₉合金膜上溅射沉积Fe₇₈Si₉B₁₃或Fe_73.5Nb₃Cu₁Si_13.5B₉合金；

(4)在上述溅射沉积形成的纳米晶合金膜上溅射沉积铜膜或铝膜。

2.按照权利要求1所述的一种铝基柔性电磁屏蔽复合材料的制备工艺，其特征是，步骤(2)中所述的离子轰击溅射条件为Ar气压强1-40Pa，在基体与棒状阳极之间施加600-800V直流电压，间距30-100mm，离子轰击溅射0.5-4min，铝箔行进速度控制在0.1-0.4m/min。

3.按照权利要求1所述的一种铝基柔性电磁屏蔽复合材料的制备工艺，其特征是，步骤(3)中所述的溅射沉积Fe₇₈Si₉B₁₃或Fe_73.5Nb₃Cu₁Si_13.5B₉合金的条件为Ar气压强1-40Pa，基体与棒状阳极之间电压600-800V，基体-棒状阳极之间间距40-100mm，靶与棒状阳极之间电压300-600V，靶-基体间距100-200mm，铝箔行进速度在0.1-0.4m/min，基体温度150-280℃。

4.按照权利要求1所述的一种铝基柔性电磁屏蔽复合材料的制备工艺，其特征是，步骤(4)中所述的溅射沉积铜膜或铝膜的条件为以铜或铝为靶材，Ar气压强1-40Pa，靶与棒状阳极之间电压300-600V，基体-棒状阳极之间间距40-100mm，靶-基体间距100-200mm，铝箔行进速度在0.1-0.4m/min，基体温度150-280℃。