[发明专利]一种青铜清洁液及高锡青铜材料的清洁方法

说明书

技术领域

本发明属于超导材料处理技术领域，涉及一种青铜清洁液，本发明还涉及采用该青铜清洁液清洁高锡青铜材料的方法。

背景技术

青铜法Nb₃Sn超导材料作为实用化的低温超导材料，在高频核磁共振谱仪、10T以上强磁场装置、高能物理加速器等现代仪器装置中广泛应用。高锡青铜是青铜法Nb₃Sn超导材料的重要原料，为线材中Nb3Sn超导相的生成提供充足的Sn源。超导线材由于其属于复杂的复合材料，其加工过程对组元的洁净要求非常高，组元的洁净能保证不引入杂质进入超导材料中，也使得各组元之间有效地冶金结合，有利于得到长线和提高超导线材的性能。

传统的高锡青铜清洁采用硝酸或硫酸进行酸洗，但青铜和硝酸反应会在表面生成一层沉淀，需要擦拭去除，而附着在高锡青铜表面的沉淀物采用擦拭的方式清除起来比较麻烦，而且不容易清理干净，这样就会增加工序，降低效率。

发明内容

本发明的目的是提供一种青铜清洁液，用于清洗酸洗过后高锡青铜表面的沉淀，并保证了高锡青铜表面的洁净度及光泽度。

本发明的另一目的是提供一种利用上述青铜清洁液清洁高锡青铜材料的方法。

本发明所采用的技术方案是，一种青铜清洁液，由按体积比为9-19∶1的CrO₃溶液和H₂SO₄组成，其中，CrO₃溶液的浓度为5-17g/100ml，溶质为CrO₃，溶剂为体积浓度为30％的H₂O₂；H₂SO₄的浓度为98％以上。

本发明所采用的另一种技术方案是，一种高锡青铜材料的清洁方法，具体按以下步骤进行：

步骤1，

配制体积浓度为20-32％的硝酸溶液，硝酸溶液温度为20-40℃；

配制浓度为5-17g/100ml的CrO₃溶液，其中，溶质为CrO₃，溶剂为体积浓度为30％的H₂O₂；选取浓度在98％以上的H₂SO₄；将配置得到的CrO₃溶液与H₂SO₄按照体积比9-19∶1配比，将H₂SO₄倒入CrO₃溶液中，搅拌，得到青铜清洁液；

步骤2，

将待清洗的高锡青铜组件置于步骤1制得的硝酸溶液中，浸泡2-5分钟；

取出后迅速将高锡青铜组件浸泡在步骤1制得的青铜清洁液中，浸泡3-10分钟后取出；

步骤3，

采用0.3-0.5Mpa压力的高压水枪冲洗步骤2处理后的高锡青铜组件，冲洗时间1-2分钟；

步骤4，

采用无水乙醇对高锡青铜组件脱水，然后将高锡青铜组件置于温度为50-80℃的烘箱中烘干，烘干时间为3-6小时，即完成。

本发明青铜清洁液中的H₂O₂、CrO₃和H₂SO₄都是强氧化剂，当高锡青铜与HNO₃溶液反应后会生成H₂SnO₃，附着在高锡青铜物料表面阻止反应继续进行，由于H₂SnO₃会和青铜清洁液快速反应，将H₂SnO₃溶解于该清洁液，从而达到清除高锡青铜表面沉淀的目的。

具体实施方式

下面通过具体实施方式对本发明进行详细说明。

本发明的一种青铜清洁液，由按体积比为9-19∶1的CrO₃溶液和H₂SO₄组成，其中，CrO₃溶液的浓度为5-17g/100ml，溶质为CrO₃，溶剂为体积浓度为30％的H₂O₂；H₂SO₄的浓度为98％以上。

采用该青铜清洁液清洁高锡青铜材料的方法，具体按以下步骤进行：

步骤1，

配制体积浓度为20-32％的硝酸溶液，硝酸溶液温度为20-40℃；