[发明专利]用于对集成电路(IC)布局中的多边形设定尺寸的方法和系统

说明书

技术领域

本发明的实施例主要地涉及用于设计和制造集成电路(IC)的 技术。具体而言，本发明的实施例涉及一种用于在掩模数据预备期 间对掩模布局中的多边形正确地设定尺寸的技术。

背景技术

近年来，由于半导体设计和制造技术的相应改进，集成电路 (IC)集成密度的巨大改进已经很大程度上变为可能。

一种这样的设计和制造技术涉及到在掩模数据预备期间对IC 掩模布局(下文称为“布局”)中的多边形设定尺寸(即收缩/减小尺 寸或者增长/增大尺寸)。为了改变多边形的尺寸，初始几何形状中 的各边可以按恒定速度移位以实现恒定的尺寸设定距离。一些应用 要求尺寸重新设定的多边形的形状基本上类似于原多边形。例如， 这是在生成派生层时或者将蚀刻偏置应用于边时的要求。

然而，常规的多边形尺寸设定技术常常基于试探法 (heuristics)，并且当它们用来处理尺寸设定距离大的多边形几何 形状时，它们可能明显修改形状。例如，当使用常规的尺寸设定技 术以减小包含与锐角关联的凹顶的多边形的尺寸时，凹顶可能在多 边形上自相交，这将原多边形拆分成两个新多边形(称为“拆分”事 件)。这样的拆分事件改变原多边形几何形状。另一方面，当这些 技术用来增大包含锐角凹顶的多边形的尺寸时，锐角可能从原几何 形状突出很远，这也造成对于多边形形状不可接受的改变。

因此，需要一种可以用来对多边形重新设定尺寸而无上述问题 的多边形尺寸设定工具。

发明内容

本发明的一个实施例提供一种对布局中的多边形设定尺寸的 系统。在操作期间，系统接收将要按照尺寸设定数量来设定尺寸的 多边形。系统然后选择多边形的一个或者多个顶点。接着，系统用 取代顶点集合取代各所选顶点并且随后向取代顶点集合中的各取代 顶点分配突出路径。系统接着根据尺寸设定数量对多边形进行尺寸 设定操作。在尺寸设定操作期间，系统沿着分配的突出路径移动取 代顶点集合中的各取代顶点，由此产生对与所选顶点关联的角的裁 减。另外，这一尺寸设定操作是连续的：针对类似的尺寸设定数量 获得类似的输出多边形。

在一种变化中，系统通过选择多边形中的锐角的顶点来选择多 边形的顶点。

在一种变化中，系统根据一个或者多个规则来选择多边形的顶 点。

在一种变化中，系统通过在一对取代顶点之间生成多边形中的 新的边来对多边形进行尺寸设定操作。

在一种变化中，系统在对多边形进行尺寸设定操作之前向取代 顶点集合中的各取代顶点分配突出速度。接着，在对多边形设定尺 寸期间，系统按照分配的突出速度沿着分配的突出路径移动取代顶 点集合中的各取代顶点。

在又一变化中，系统接收用于与所选顶点关联的角的裁减准则 集合。系统随后基于裁减准则集合来确定用于取代顶点集合中的各 取代顶点的突出路径和突出速度。

在一种变化中，用于取代顶点集合中的第一取代顶点的第一突 出路径不同于用于取代顶点集合中的第二取代顶点的第二突出路 径。

在又一变化中，系统控制第一突出路径与第二突出路径之间的 角以控制对与所选顶点关联的角的裁减数量。

在一种变化中，系统通过以下操作之一对多边形来进行尺寸设 定操作：按照尺寸设定数量来增大多边形尺寸；或者按照尺寸设定 数量来减小多边形尺寸。

在一种变化中，系统通过在与多边形的边垂直的方向上传播边 来对多边形进行尺寸设定操作，由此在尺寸设定期间维持多边形的 拓扑结构。

在一种变化中，系统通过沿着关联角的等分线方向移动多边形 的未被选择的顶点来对多边形进行尺寸设定操作。

附图说明

图1图示了在设计和制作集成电路时的各种阶段。

图2图示了基于波前尺寸设定过程的示例多边形尺寸设定操 作。

图3A图示了未进行裁剪操作的按照小的尺寸设定距离来对输 入多边形设定尺寸的过程。

图3B图示了通过后处理裁剪操作来裁剪尺寸设定的多边形中 的锐角。

图3C图示了在不进行裁剪操作的情况下按照大的尺寸设定距 离来对输入多边形设定尺寸的过程。

图3D图示了尝试在利用大的尺寸设定距离来对输入多边形设 定尺寸之后进行后处理裁剪操作。