[发明专利]用于生产电子照相感光构件的设备和方法

说明书

技术领域

本发明涉及用于生产电子照相感光构件的设备，和通过采 用所述设备生产电子照相感光构件的方法，其中所述设备具有 伸缩罩(stretching hoods)，当通过浸涂在被涂布的多个构件的各 表面上形成涂膜时，所述伸缩罩能够分别覆盖被涂布构件。

背景技术

通过在包含支撑体的被涂布构件的表面上形成感光层来生 产用于复印机和激光束打印机的电子照相感光构件。在所述生 产方法中经常采用能够在多个被涂布构件的各表面上同时形成 感光层的浸涂法，原因是所述方法是节省空间和低成本的。

浸涂法是包含以下步骤的方法：在涂布槽(coating bath)中 放置的感光层用涂布液等中浸渍被涂布构件，从所述涂布液中 提起被涂布构件，然后干燥在所述被涂布构件表面上形成的涂 膜。由此，浸涂法易于进行并使大量生产(同时涂布多个构件) 容易。然而，当从涂布槽中提起被涂布构件时，在被涂布构件 周围存在的溶剂蒸气的状态可受到来自外部的气流的影响而变 化。由于这个缘故，浸涂法具有以下问题：在被涂布构件的表 面上形成的涂膜中可能发生不规则。

日本专利申请特开2007-086176、日本专利3797532和日本 专利申请特开H07-104488公开了提供围绕被涂布构件的罩以 克服此问题的技术。另外，日本专利申请特开2007-206151公开 了提供覆盖全部多个被涂布构件的罩的技术。这些技术旨在用 罩控制来自外部的气流，并抑制涂膜不规则的发生。另外，将 这些罩构造为伸缩罩，从而在提起被涂布构件时，所述罩能够 与被涂布构件的运动相关地拉伸。

然而，当使用如日本专利申请特开2007-206151中公开的用 于覆盖全部多个被涂布构件的此伸缩罩时，如日本专利申请特 开2007-206151的图1中所示，在构造设备以同时进行多个被涂 布构件的浸涂的情况下，将造成存在于在外侧设置的被涂布构 件周围的溶剂蒸气的状态与存在于在内侧设置的被涂布构件周 围的溶剂蒸气的状态之间的差别。结果，在外侧构件的表面上 形成的涂膜与在内侧构件的表面上形成的涂膜之间，干燥可能 不同地进行，形成涂膜的条件可能不同。

因此，在同时浸涂多个被涂布构件的情况下，需要设置多 个伸缩罩以使得能够分别覆盖多个被涂布构件的各侧面。

然而，如日本专利申请特开2007-086176、日本专利3797532 和日本专利申请特开H07-104488所公开的，在设置用于分别覆 盖多个被涂布构件的各侧面的多个伸缩罩的情况下，在有限的 空间内设置多个伸缩罩，并且可能发生临近的伸缩罩彼此接触 的不利情形。当在此条件下进行多个被涂布构件的浸涂时，伸 缩罩可能彼此干扰，导致在伸缩罩中的各伸缩运动不同，且围 绕多个被涂布构件的溶剂蒸气的状态将变得不同。另外，当重 复多个伸缩罩的伸缩操作时，即使没有如上所述在伸缩罩之间 的干扰，也会以伸缩的方式导致伸缩罩之间的差异。结果，即 使通过使用伸缩罩能够抑制来自外部的气流，围绕被涂布构件 的溶剂蒸气的状态的差异也将导致在生产的多个电子照相感光 构件之间的涂膜的不规则性的差异，因而引起电子照相特性的 个体差异。

发明内容

本发明的目的是提供用于生产电子照相感光构件的设备和 使用所述生产设备生产电子照相感光构件的方法，即使当使用 用于分别覆盖多个被涂布构件的各侧面的多个伸缩罩时，所述 设备也能够抑制在生产的多个电子照相感光构件之间的涂膜的 变化，由此也抑制电子照相感光构件的个体差异。

本发明涉及用于生产电子照相感光构件的设备，所述设备 具有涂布机、输送保持构件，并具有多个伸缩罩，所述涂布机 用于在涂布槽中的涂布液中浸渍多个被涂布构件，然后提起被 涂布构件以在各所述多个被涂布构件的表面上形成涂膜，所述 输送保持构件用于保持和输送被涂布构件，当涂布机提起多个 被涂布构件时，所述多个伸缩罩能够分别覆盖多个被涂布构件 的各侧面并能够与多个被涂布构件的运动相关联地延伸，从而 分别覆盖多个被涂布构件的各侧面，其中所述多个伸缩罩在所 述罩的下部彼此连接。

本发明还涉及用于生产电子照相感光构件的方法，所述方 法具有使用上述生产设备而在多个被涂布构件的各表面上形成 感光层的步骤。