[发明专利]透光性部件、钟表及透光性部件的制造方法

权利要求书

1.一种透光性部件，其包括具有透光性的基材，该透光性部件的特 征在于，

在所述基材的至少部分表面上形成有抗反射层，该抗反射层通过交 替层积由氮化硅构成的高折射率层和由二氧化硅构成的低折射率层而构 成，

所述抗反射层从其最表面到150nm深度的范围中的氮化硅的含量为 35体积%～50体积%。

2.根据权利要求1所述的透光性部件，其特征在于，从所述抗反射 层的最表面到150nm深度的范围中的氮化硅的含量为40体积%～50体 积%。

3.根据权利要求1或2所述的透光性部件，其特征在于，该透光性 部件的表面硬度为24000N/mm²以上。

4.根据权利要求3所述的透光性部件，其特征在于，该透光性部件 的表面硬度为30000N/mm²以上。

5.根据权利要求1所述的透光性部件，其特征在于，在所述抗反射 层上形成有由含氟有机硅化合物构成的防污层。

6.根据权利要求5所述的透光性部件，其特征在于，所述含氟有机 硅化合物是烷氧基硅烷化合物。

7.根据权利要求5所述的透光性部件，其特征在于，所述含氟有机 硅化合物是下述式(1)和/或式(2)所示的全氟醚化合物，

式(1)中，R_f¹表示全氟烷基；X表示溴、碘或氢；Y表示氢或低级烷 基，Z表示氟或三氟甲基；R¹表示能够水解的基团，R²表示氢或惰性的 1价烃基；a、b、c、d、e为0或1以上的整数，并且a＋b＋c＋d＋e至 少为1以上，以a、b、c、d、e括起来的各重复单元的存在顺序不限于式 中的顺序；f为0、1或2；g为1、2或3；h为1以上的整数，

式(2)中，R_f²表示2价基团，该2价基团包含式“-(C_kF_2k)O-”所示 的单元，且具有没有支链的直链状全氟聚亚烷基醚结构，式“-(C_kF_2k)O-” 中的k为1～6的整数；R³表示碳原子数为1～8的1价烃基；W表示水 解性基团或卤原子；p为0、1或2；n为1～5的整数；m和r为2或3。

8.根据权利要求5所述的透光性部件，其特征在于，所述防污层的 厚度为0.001μm～0.05μm。

9.根据权利要求1、2、4～8中任一项所述的透光性部件，其特征 在于，

所述透光性部件是罩部件，

在所述罩部件的内侧部分和外侧部分中，所述抗反射层至少形成于 外侧的部分上。

10.根据权利要求3所述的透光性部件，其特征在于，

所述透光性部件是罩部件，

在所述罩部件的内侧部分和外侧部分中，所述抗反射层至少形成于 外侧的部分上。

11.一种钟表，其特征在于，所述钟表具有权利要求9或10所述的 透光性部件，所述透光性部件设在收容钟表主体的壳体上。

12.一种透光性部件的制造方法，其是制造权利要求1～10中任一 项所述的透光性部件的方法，其特征在于，

所述制造方法包括通过溅射形成构成所述抗反射层的高折射率层和 低折射率层的溅射工序。

13.根据权利要求12所述的透光性部件的制造方法，其特征在于，

所述制造方法包括在将基材加热到100℃以上的同时进行溅射的加 热工序。

14.根据权利要求12或13所述的透光性部件的制造方法，其特征 在于，

所述制造方法包括在通过溅射形成所述抗反射层之前对基材进行反 溅射的反溅射工序。