[发明专利]图像处理装置及方法有效
| 申请号: | 200910140739.1 | 申请日: | 2009-05-13 |
| 公开(公告)号: | CN101631246A | 公开(公告)日: | 2010-01-20 |
| 发明(设计)人: | 林修身;梁金权;张德浩 | 申请(专利权)人: | 联发科技股份有限公司 |
| 主分类号: | H04N7/26 | 分类号: | H04N7/26 |
| 代理公司: | 北京万慧达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 葛 强;张一军 |
| 地址: | 中国台湾新竹科*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 图像 处理 装置 方法 | ||
1.一种图像处理装置,其特征在于,包含:
区块匹配单元,用以比较至少一目标区块和至少一参考区块,以产生匹配结果;
纹理信息分析单元,用以产生对应于该目标区块的纹理信息和该参考区块的纹理信息的纹理分析结果;
匹配成本产生单元,耦接于该区块匹配单元和加权单元;以及
加权单元,耦接在该纹理信息分析单元和该匹配成本产生单元之间,用以调整该纹理分析结果以产生已加权纹理分析结果;
其中,该匹配成本产生单元根据该匹配结果和该已加权纹理分析结果产生匹配成本。
2.一种图像处理装置,其特征在于,包含:
区块匹配单元,用以比较至少一目标区块和至少一参考区块,以产生匹配结果;
纹理信息分析单元,用以产生对应于该目标区块的纹理信息和该参考区块的纹理信息的纹理分析结果;
匹配成本产生单元,耦接于该区块匹配单元和映射单元;以及
映射单元,耦接在该纹理信息分析单元和该匹配成本产生单元之间,用于将该纹理分析结果映射到已映射纹理分析结果,其中,该纹理分析结果具有第一比特长度,该已映射纹理分析结果具有第二比特长度,该第二比特长度小于该第一比特长度;
其中,该匹配成本产生单元根据该匹配结果和该已映射纹理分析结果产生匹配成本。
3.如权利要求2所述的图像处理装置,其特征在于,该纹理分析结果包括该参考区块的参考纹理信息以及该目标区块的目标纹理信息,该已映射纹理分析结果包括对应于该参考纹理信息的参考比特信息以及对应于该目标纹理信息的目标比特信息。
4.如权利要求2所述的图像处理装置,其特征在于,该图像处理装置更包含:
加权单元,耦接在该映射单元和该匹配成本产生单元之间,用以调整该已映射纹理分析结果以产生已加权纹理分析结果;
其中,该匹配成本产生单元根据该匹配结果和该已加权纹理分析结果产生该匹配成本。
5.如权利要求2所述的图像处理装置,其特征在于,该纹理信息包含边缘信息、方差信息、频率响应信息或上述三个信息的任意组合。
6.如权利要求2所述的图像处理装置,其特征在于,该目标区块和该参考区块是从不同的图像帧中产生。
7.如权利要求2所述的图像处理装置,其特征在于,该区块匹配单元比较多个目标区块与多个参考区块,以分别产生多个匹配结果;该纹理信息分析单元根据该多个目标区块和该多个参考区块产生多个纹理分析结果;该映射单元根据该多个纹理分析结果映射到多个已映射纹理分析结果;该匹配成本产生单元根据该多个匹配结果和该多个已映射纹理分析结果产生一个匹配成本;以及该图像处理装置更包含:
运动向量决定单元,耦接于该匹配成本产生单元,用于根据该一个匹配成本确定内插区块的运动向量。
8.一种图像处理方法,其特征在于,该图像处理方法包含:
比较至少一目标区块和至少一参考区块,以产生匹配结果;
产生纹理分析结果,该纹理分析结果对应该目标区块的纹理信息和该参考区块的纹理信息;以及
调整该纹理分析结果以产生已加权纹理分析结果;以及
根据该匹配结果和该已加权纹理分析结果产生匹配成本。
9.一种图像处理方法,其特征在于,该图像处理方法包含:
比较至少一目标区块和至少一参考区块,以产生匹配结果;
产生纹理分析结果,该纹理分析结果对应该目标区块的纹理信息和该参考区块的纹理信息;
将具有第一比特长度的该纹理分析结果映射到具有第二比特长度的已映射纹理分析结果,该第二比特长度小于该第一比特长度;以及
根据该匹配结果和该已映射纹理分析结果产生匹配成本。
10.如权利要求9所述的图像处理方法,其特征在于,该纹理分析结果包括该参考区块的参考纹理信息以及该目标区块的目标纹理信息,该已映射纹理分析结果包括对应于该参考纹理信息的参考比特信息以及对应于该目标纹理信息的目标比特信息。
11.如权利要求9所述的图像处理方法,其特征在于,该图像处理方法更包含:
调整该已映射纹理分析结果以产生已加权纹理分析结果;
其中,根据该匹配结果和该已加权纹理分析结果产生该匹配成本。
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