[发明专利]投影光学系统、曝光装置以及器件制造方法有效
| 申请号: | 200910140242.X | 申请日: | 2009-07-09 |
| 公开(公告)号: | CN101625455A | 公开(公告)日: | 2010-01-13 |
| 发明(设计)人: | 福岗亮介;深见清司 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
| 主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00;G03F7/20;G03F7/00 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 李今子 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 投影 光学系统 曝光 装置 以及 器件 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及投影光学系统、具备该投影光学系统的曝光装置以及 使用该曝光装置来制造器件的器件制造方法。
背景技术
平板显示器(以下称为FPD)是通过光刻工序制造的。在光刻 工序中,针对涂敷有感光剂的基板(在FPD的制造中,一般是玻璃 板)通过投影光学系统投影底版的图案而对该基板进行曝光。在用于 对基板进行曝光的曝光装置中,重合误差的降低是重要的。重合误差 是例如由于调准误差、像差(畸变)、倍率误差而产生的。在它们之 中,调准误差可以通过高精度地调整底版与基板的相对位置来降低, 但像差与倍率误差无法通过调准来校正。
玻璃板等基板由于由生产工艺发生的热等原因而发生伸缩,从而 可能引起倍率误差。由于基板收缩,第二工艺以后的重合精度恶化。 另外,在扫描曝光中的扫描方向和与其垂直的方向上产生不同的伸 缩。为了降低伴随基板的伸缩的误差,针对扫描方向的伸缩,考虑在 底版与基板之间给予相对的速度差来曝光的方法。另外,针对与扫描 方向垂直的方向的伸缩,考虑如下方法:将平行平板玻璃配置在底版 或基板的附近,并通过将该平行平板玻璃弯曲而使光线折射,由此进 行倍率的微调整。
在日本专利公开昭62-35620号公报、日本专利3341269号公报 中,公开了倍率校正方法。在日本专利公开昭62-35620号公报中, 公开了在投影光学系统中将相对光轴旋转对称的两个透镜相互接近 地配置,并在光轴方向上对其中一个透镜进行驱动的技术。在日本专 利3341269号公报中,公开了使相对投影光学系统的光轴旋转非对称 的至少两个复曲面型光学部件中的至少一个复曲面型光学部件相对 于光轴旋转或在光轴方向上移动的技术。
但是,在为了校正基板的扫描方向上的倍率而在底版与基板之间 相对地给予速度差的方法中,在良像区域是圆弧状的情况下,可能发 生特有的非对称畸变像差。为了对其进行校正,需要对其他的像差校 正用的光学部件进行驱动。由此,发生机械机构的复杂化和驱动像差 残渣。
另外,在为了对与基板的扫描方向正交的方向上的倍率进行校正 而将平行平板玻璃弯曲的方法中,难以将平行平板玻璃高精度地弯曲 为目标形状,而发生非线性的像差误差分量。而且,为了应对近年来 的基板的大型化,平行平板玻璃也必需大型化,这可能带来误差。
在日本专利公开昭62-35620号公报、日本专利3341269号公报 记载的方法中,不能各自地进行针对扫描方向的倍率校正和针对与其 正交的方向的倍率校正。
发明内容
本发明是鉴于上述背景而完成的,其示例性的目的在于,能够各 自地进行两个正交的方向上的倍率校正。
本发明的第一侧面涉及一种投影光学系统,在从物体面至像面的 光路中依次配置有第一凹反射面、凸反射面、第二凹反射面,将配置 于上述物体面上的物体的像投影到上述像面,上述投影光学系统具 备:配置在上述光路中的第一折射光学单元以及第二折射光学单元; 第一致动器,对上述第一折射光学单元进行驱动;以及第二致动器, 对上述第二折射光学单元进行驱动,上述第一折射光学单元以及上述 第二折射光学单元分别具有两个以上的柱状面,上述第一折射光学单 元配置为能够调整第一方向上的上述投影光学系统的投影倍率,上述 第二折射光学单元构成为能够调整与上述第一方向正交的第二方向 上的上述投影光学系统的投影倍率,上述第一致动器变更上述第一折 射光学单元的两个以上的柱状面的间隔,以使上述第一方向上的投影 倍率成为第一目标投影倍率,上述第二致动器变更上述第二折射光学 单元的两个以上的柱状面的间隔,以使上述第二方向上的投影倍率成 为第二目标投影倍率。
本发明的第二侧面涉及对基板进行曝光的曝光装置,上述曝光装 置具备上述投影光学系统,通过上述投影光学系统将底版的图案投影 到基板来对该基板进行曝光。
本发明的第三侧面涉及器件制造方法,上述器件制造方法包括: 通过上述曝光装置对涂敷有感光剂的基板进行曝光的工序;以及使该 感光剂显影的工序。
本发明的更多特征将从下面参照附图的具体实施方式的描述中 变得清楚。
附图说明
图1是示出本发明的优选的实施方式的曝光装置的概略结构的 图。
图2是示意性地示出图1所示的曝光装置的投影光学系统的结构 的图。
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