[发明专利]尤其用于盔的调节装置有效

专利信息
申请号: 200910138771.6 申请日: 2009-02-26
公开(公告)号: CN101564211A 公开(公告)日: 2009-10-28
发明(设计)人: A·菲克普罗;J·莱内 申请(专利权)人: 戴卡特隆有限公司
主分类号: A42B3/04 分类号: A42B3/04;A42B7/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 余全平
地址: 法国阿*** 国省代码: 法国;FR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 尤其 用于 调节 装置
【权利要求书】:

1.能调节物品的至少一尺寸的调节装置,所述物品用于由使用者穿 戴,所述调节装置包括设有多个为第一高度的第一齿(2)的一小齿轮(1), 所述小齿轮(1)围绕一旋转轴(A)自由旋转(R)地被容纳在一容座(3) 中,且所述调节装置包括至少一第一齿轨,所述第一齿轨设有至少一包括 多个为第二高度的第二齿(5)的齿列,所述第一齿轨在所述容座(3)中 以自由平移(T)方式滑动,所述第二齿(5)与所述第一齿(2)配合, 以使所述小齿轮(1)围绕所述旋转(R)轴(A)的旋转(R)驱动所述 第一齿轨平移(T),

其特征在于:

-所述第一齿轨是可弹性变形的,以便在所述小齿轮(1)旋转(R) 过程中当将一力(F)朝与所述平移(T)的方向相反的方向施加在所述第 一齿轨上时,所述第一齿轨经受弹性变形,

-所述容座(3)为所述第一齿轨留出在所述小齿轮(1)的旋转(R) 平面中且垂直于所述平移(T)的方向的一间隙(j1),所述间隙(j1)至 少等于所述第一齿(2)和第二齿(5)的相应的第一高度和第二高度中的 最小高度,从而当所述第一齿轨经受所述弹性变形时,与所述小齿轮(1) 的第一齿(2)配合的所述第二齿(5)脱离开所述第一齿(2)。

2.如权利要求1所述的调节装置,其特征在于:该调节装置包括第 二齿轨,所述第二齿轨设有至少一包括多个为第三高度的第三齿(9)的齿 列,所述第二齿轨在所述容座(3)中自由地以与所述平移(T)相反的平 移(T’)方式滑动,所述第三齿(9)与所述第一齿(2)配合,以便所 述小齿轮(1)围绕所述旋转(R)轴(A)的旋转(R)驱动所述第二齿 轨平移(T’),所述第二齿轨是可弹性变形的,从而在所述小齿轮(1) 旋转(R)过程中当将一力(F’)朝与所述第二齿轮的平移(T’)的方 向相反的方向施加在所述第二齿轨上时,所述第二齿轨经受弹性变形,所 述容座(3)为所述第二齿轨留出一在所述小齿轮(1)的旋转(R)平面 中且垂直于所述第二齿轮的平移(T’)的方向的间隙(j2),所述第二齿 轨的所述间隙(j2)至少等于所述第一齿(2)和第三齿(9)的相应的第 一高度和第三高度中的最小高度,以便当所述第二齿轨经受所述弹性变形 时,与所述小齿轮(1)的第一齿(2)配合的所述第三齿(9)脱离开所述 第一齿(2)。

3.如权利要求2所述的调节装置,其特征在于:所述第一齿轨和/ 或第二齿轨呈沿其纵向方向具有开口(8)的纵向构件的形式,所述开口(8) 被第一侧边(8a)限定,所述第二齿(5)和/或第三齿(9)的齿列沿所述 第一侧边(8a)设置。

4.如权利要求3所述的调节装置,所述调节装置具有第一齿轨和第 二齿轨,其特征在于,形成所述第一齿轨的所述纵向构件的开口(8)的沿 其设有所述第二齿(5)的齿列的第一侧边(8a)、与形成所述第二齿轨的 所述纵向构件的开口的沿其设有所述第三齿(9)的齿列的第一侧边相对。

5.如权利要求2所述的调节装置,其特征在于:所述容座(3)包括 对中在所述旋转(R)轴(A)上的一腔(11),该腔用于接纳所述小齿轮 (1),且所述容座包括在所述腔(11)两侧的两个纵向部分(12,13), 这两个纵向部分用于导引所述第一齿轨和/或第二齿轨进行平移,每个所述 纵向部分(12,13)具有第一通道(12a,13a)和第二通道(12b,13b), 用以使所述第一齿轨和/或第二齿轨通过,所述第一通道(12a,13a)远离 所述腔(11)设置,且所述第二通道(12b,13b)通到圆形的所述腔(11) 中,所述旋转(R)轴(A)与所述第二通道(12b,13b)之间的距离小 于所述旋转(R)轴(A)与所述第一齿轨和/或第二齿轨的端部之间的最 小距离。

6.如权利要求2所述的调节装置,其特征在于:所述容座(3)的底 部具有至少一个接触片(10、21),所述第一齿轨和/或第二齿轨抵靠在所 述接触片上,从而将所述第一齿轨和/或第二齿轨保持在所述小齿轮(1) 的旋转(R)平面内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于戴卡特隆有限公司,未经戴卡特隆有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910138771.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top