[发明专利]破碎基板的装置和方法有效
申请号: | 200910080093.2 | 申请日: | 2009-03-18 |
公开(公告)号: | CN101837307A | 公开(公告)日: | 2010-09-22 |
发明(设计)人: | 缪红林;张建 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | B02C1/00 | 分类号: | B02C1/00;B02C23/00;B08B5/02 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 刘芳 |
地址: | 100176 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 破碎 装置 方法 | ||
1.一种破碎基板的装置,其特征在于,包括封闭室、设置于所述封闭室内壁上的至少一层支撑装置、穿设于所述封闭室顶部的垂直杆、设置于所述封闭室上方的第一驱动装置和与所述封闭室底部连通的漏斗装置;每层所述支撑装置用于支撑至少一个基板;所述第一驱动装置驱动所述垂直杆向下移动击碎所述每层支撑装置支撑的基板,形成的基板碎片落入所述漏斗装置,所述漏斗装置使所述基板碎片到达所述封闭室所在的净化间之外。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述封闭室设置有封闭门。
3.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,每层支撑装置包括相对设置于所述封闭室内壁上的多个支架,每列支架包括每层支撑装置同一位置的支架。
4.根据权利要求3所述的装置,其特征在于,还包括设置于所述封闭室内壁上并位于相邻二列支架之间的旋转杆以及设置于所述封闭室外的第二驱动装置,所述第二驱动装置用于驱动所述旋转杆向垂直方向旋转将残留在所述支架上的基板碎片击落入所述漏斗装置。
5.根据权利要求3所述的装置,其特征在于,还包括设置于所述封闭室内壁上并位于每列支架一侧的旋转刷以及设置于所述封闭室外的第二驱动装置,所述第二驱动装置用于驱动所述旋转刷向水平方向旋转将残留在所述支架上的基板碎片扫落入所述漏斗装置。
6.根据权利要求1至5任一所述的装置,其特征在于,还包括设置于所述封闭室顶部的高压喷嘴,用于喷出高压气体将残留在所述封闭室内壁上以及所述支撑装置上的粉尘吹落入所述漏斗装置,所述漏斗装置使所述粉尘到达所述封闭室所在的净化间之外。
7.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述高压气体为高压氮气。
8.一种破碎基板的方法,其特征在于,包括:
将至少一个基板放置于封闭室内的支撑装置上;
第一驱动装置驱动垂直杆向下移动击碎每层支撑装置上放置的基板,形成基板碎片;
所述基板碎片落入所述漏斗装置,并通过所述漏斗装置到达所述封闭室所在的净化间之外。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述基板碎片落入所述漏斗装置,并通过所述漏斗装置到达所述封闭室所在的净化间之外后还包括:
第二驱动装置驱动旋转杆向垂直方向旋转将残留在所述支撑装置的支架上的基板碎片击落入所述漏斗装置;
残留的基板碎片通过所述漏斗装置到达所述封闭室所在的净化间之外。
10.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述基板碎片落入所述漏斗装置,并通过所述漏斗装置到达所述封闭室所在的净化间之外之后还包括:
第二驱动装置驱动旋转刷向水平方向旋转将残留在所述支撑装置的支架上的基板碎片扫落入所述漏斗装置;
残留的基板碎片通过所述漏斗装置到达所述封闭室所在的净化间之外。
11.根据权利要求9或10所述的方法,其特征在于,所述残留的基板碎片通过所述漏斗装置到达所述封闭室所在的净化间之外后还包括:
高压喷嘴喷出高压气体将残留在所述封闭室内的粉尘吹落入所述漏斗装置;
所述粉尘通过所述漏斗装置到达所述封闭室所在的净化间之外。
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