[发明专利]一种机床刀具用单晶硅片表面涂层Si3N4复合薄膜的方法无效
| 申请号： | 200910048384.3 | 申请日： | 2009-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN101509134A | 公开（公告）日： | 2009-08-19 |
| 发明（设计）人： | 李健 | 申请（专利权）人： | 上海第二工业大学 |
| 主分类号： | C23C28/00 | 分类号： | C23C28/00;C23C22/48;C23C20/08 |
| 代理公司： | 上海东创专利代理事务所 | 代理人： | 宁芝华 |
| 地址： | 201209上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 机床 刀具 单晶硅 表面 涂层 si sub 复合 薄膜 方法 | ||
【权利要求书】：
1、一种机床刀具用单晶硅片表面涂层Si3N4复合薄膜的方法，其特征在于包括如下步骤：
A)先将单晶硅片浸泡在王水中加热5～6小时，在室温中自然冷却后取出，冲洗、干燥；
B)将A)干燥后的单晶硅片浸于体积比为H2SO4∶H2O2＝70∶30的溶液中，于室温下1小时，然后用去离子水超声清洗后放在防尘装置内的烘箱中再干燥；
C)再将B)处理后的单晶硅片浸入巯基硅烷浓度为0.1～1.0mmol/L的苯溶液中，静置6～8小时取出，冲洗后用氮气吹干；
D)再将C)处理后的单晶硅片置于质量浓度为30％～60％的硝酸中；在50～80℃下反应2小时，取出用去离子水冲洗，得到表面附有磺酸基硅烷薄膜的单晶硅片；
E)将Si3N4在室温下按0.1～0.2mg/ml放入N，N-二甲基甲酰胺分散剂，40W超声波分散1～3小时，得到稳定的悬浮液；
F)将D)得到的表面组装有磺酸基硅烷薄膜的单晶硅片浸入到E)制备好的Si3N4悬浮液中，在20～60℃静置2～24小时，取出用大量去离子水冲洗，冲洗后用氮气吹干，这样就得到表面沉积有Si3N4复合薄膜的单晶硅片。
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