[发明专利]多重成像光刻装置以及方法有效
| 申请号： | 200910047580.9 | 申请日： | 2009-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN101510057A | 公开（公告）日： | 2009-08-19 |
| 发明（设计）人： | 蔡燕民 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/02 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈 蘅;李时云 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 多重 成像 光刻 装置 以及 方法 | ||
1.一种多重成像光刻装置，包括照明光源、掩模台、掩模、投影物镜及基底，其特征在于，还包括：
二元相位光栅，设置于上述掩模和上述投影物镜之间。
2.根据权利要求1所述的多重成像光刻装置，其特征在于，其中上述二元相位光栅为一达曼光栅。
3.根据权利要求1所述的多重成像光刻装置，其特征在于，其中上述多重成像光刻装置还包括一工件台，上述工件台承载上述基底。
4.根据权利要求3所述的多重成像光刻装置，其特征在于，其中上述多重成像光刻装置还包括一工件台定位控制系统，操作性的连接上述工件台并控制上述工件台的移动。
5.根据权利要求4所述的多重成像光刻装置，其特征在于，其中上述多重成像光刻装置还包括一系统控制单元，电性连接上述工件台定位控制系统。
6.根据权利要求1所述的多重成像光刻装置，其特征在于，其中上述基底为一标准12寸硅片。
7.根据权利要求6所述的多重成像光刻装置，其特征在于，其中上述标准12寸硅片上包括5*5个曝光视场。
8.一种多重成像曝光方法，适于一光刻装置，上述光刻装置包括照明光源、掩模台、掩模、投影物镜、基底以及二元相位光栅，上述二元相位光栅设置于上述掩模和上述投影物镜之间，上述多重成像曝光方法的特征在于，包括下列步骤：
全场调平调焦，将上述基底定位于上述投影物镜的焦平面上；
对准上述掩模和上述基底；以及
多重成像曝光上述基底。
9.根据权利要求8所述的多重成像曝光方法，其特征在于，其中上述二元相位光栅为一达曼光栅。
10.根据权利要求8所述的多重成像曝光方法，其特征在于，其中上述光刻装置还包括一工件台，上述工件台承载上述基底。
11.根据权利要求10所述的多重成像曝光方法，其特征在于，其中上述光刻装置还包括一工件台定位控制系统，操作性的连接上述工件台并控制上述工件台的移动。
12.根据权利要求11所述的多重成像曝光方法，其特征在于，其中上述光刻装置还包括一系统控制单元，电性连接上述工件台定位控制系统。
13.根据权利要求8所述的多重成像曝光方法，其特征在于，其中上述基底为一标准12寸硅片。
14.根据权利要求13所述的多重成像曝光方法，其特征在于，其中上述标准12寸硅片上包括5*5个曝光视场。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司，未经上海微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910047580.9/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：多驱动式电动开窗机控制系统
- 下一篇：去除干版或菲林中霉点的处理液及处理方法
