[发明专利]偶氮苯液晶光全息存储材料及其制备方法

权利要求书

1.一种偶氮苯液晶光全息存储材料，其特征在于包括二氧化硅、含偶氮苯基团化合物和含液晶基团化合物，偶氮苯基团与液晶基团的摩尔比为0.5～10∶1；所述含偶氮苯基团化合物为对丁氧基偶氮苯、4-甲氧基-4′-丁基偶氮苯、4，4′-双(4-羟基偶氮苯)联苯或对硝基偶氮苯酚；所述含液晶基团化合物为甲亚胺系液晶、苯甲酸酯系液晶、联苯系液晶、三联苯系液晶、环己酸苯酯系液晶、苯基环己烷系或联苯基环己烷系液晶中的一种或几种混合物。

2.权利要求1所述偶氮苯液晶光全息存储材料的制备方法，其特征在于包括如下步骤：先将溶胶前驱体水解，然后向得到的溶胶中加入含偶氮苯基团化合物和含液晶基团化合物，混合均匀后在室温静置凝胶而后固化；所述溶胶前驱体为含有两个或多个甲氧基或乙氧基的硅烷化合物。

3.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于所述含有两个或多个甲氧基或乙氧基的硅烷化合物为正硅酸乙酯、γ-氨丙基三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷或γ-巯丙基三乙氧基硅烷中的一种或几种混合物。