[发明专利]激光瞄准系统

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于瞄准激光(pointing a laser)的系统，以及特别涉及具有高平均功率的激光器。本发明还涉及激光成像系统以及用于瞄准多个光源的系统。

背景技术

在通过光学激光束进行处理的系统中，需要精确地将处理激光束瞄准待处理的目标。从而需要精确的了解处理光束在目标上的冲击点。

为此，已知使用能够具有目标图像以及处理光束在目标上的冲击点的成像系统。从而系统能够以得到图像为函数修改处理光束的定向。

为了执行成像，已知系统一般而言朝向目标发射照明光束。成像系统接收目标反射的光以及识别目标的位置。

但是，通常使用相同的光电路进行处理光束的发射和照明光束的发射。从而发射处理光束的系统，特别是在目标具有小尺寸的情况下，会干扰成像系统的接收。

本发明能够克服这个缺点。

本发明特别用于瞄准系统中，其中反射系统能够使用相同的光学元件进行处理光束的发射和成像。

发明内容

因此，本发明涉及一种用于瞄准激光束的系统，其特征在于，所述系统包括：

-至少一个处理激光源，用于向目标发出处理激光束，所述处理光束被传输通过第一反光镜的无反射性区域，所述反光镜允许目标反射的光返回到成像系统，所述第一反光镜的低反射系数区域包括朝向成像系统的阴影区；

-第二反光镜，接收所述处理光束，以及用于将所述处理光束朝向目标定向并反射；

-照明光源，用于借助照明光束照亮所述目标；

-第一控制电路，用于控制所述瞄准系统朝向目标的定向；

-第二控制电路，用于将所述处理光束角位移确定的角度，根据成像系统得到的图像，测量从处理光束的光斑的位置到目标的区域的位置之间的距离，然后通过对应于所述测量距离的角度相反的移动照明光束，处理光束的角位移的幅度使得目标的位置的测量不被阴影区所干扰。

反光镜M2满足双重的功能：通过CT并根据CA输出的信号，精细的稳定瞄准，以及移动处理光束从而避免阴影区引起的干扰。

这两个功能可以通过两个专门的反光镜实现(一个提供精细的稳定以及另一个实现转移)，从而缩短处理光束离开目标的时间，同时减小转移反光镜的惯性。

根据本发明的一个实施例，所述处理光束被传输通过第一反光镜的无反射性区域，所述反光镜允许被目标反射的光返回到成像系统。该第一反光镜的低反射系数区域引起朝向成像系统的阴影区。

根据该实施例，所述处理光束在成像系统中角位移的所述角度对应于所述阴影区的直径。

根据另一可选实施例，本发明的系统包括第三反光镜，其用于朝向所述目标反射从第二反光镜接收的光，或者反过来朝向第二反光镜反射从目标接收到的光，该第三反光镜能够调节从第二反光镜接收到的光束的聚焦。

根据另一可选实施例，本发明的系统包括第四反光镜，其接收从第一反光镜接收到的光，并将其朝向成像系统反射。

根据本发明的有利的实施例，所述处理光束具有第一波长或者波长范围，以及所述照明光束具有与第一波长或波长范围不同的第二波长或波长范围。该系统进一步包括位于第一反光镜和成像系统之间的光谱滤波器，用于仅将第二波长或波长范围传输到成像系统。

有利地，处理激光源包括发射光纤或多个发射光纤的组件，其一端和所述反射面平齐。所述端的表面构成反射性很弱或者无反射性的所述区域。反射面和所述端的表面位于相同平面中以及相对于发射光纤或发射光纤的组件的轴倾斜。

根据可选实施例，所述第一反光镜包括镀有体衍射光栅的面，其在所述区域中包括用于所述处理光束穿过的孔，并利用被目标反射之后照明激光发出的辐射的准单色特性的守恒，从而在角度上将处理路径从成像路径中分离出来。

附图说明

参考下列描述和附图，本发明的不同主题和特点将变得更显而易见，其中：

图1描述了应用本发明的光学成像系统的典型的实施例，

图2a到图2e描述了根据本发明的光学瞄准方法的示例，

图3和图4描述了本发明的方法和系统中可能使用的反光镜的典型的实施例，

图5显示了采用根据本发明的方法的光学瞄准系统。

具体实施方式

参考图1，首先描述应用本发明的用于瞄准激光束的系统的示例。