[发明专利]立式气化装置

权利要求书

1.一种用于气化原料的两级气化反应器系统，所述反应器系统包括：

第一级反应器段，所述第一级反应器段界定第一反应区，其中所述第一 级反应器段包括主体，至少二个入口突出体，以及至少二个入口，其中所述 入口突出体中的每个具有耦合于所述主体的近端和从所述主体向外隔开的远 端，其中所述入口中的一个位于紧邻所述入口突出体中的每个的所述远端， 其中所述入口中的每个可操作来将所述原料排放到所述第一反应区中，其中 所述第一级反应器段呈现协同界定所述第一反应区的多个内表面，其中所述 主体呈现所述内表面本体部分，其中所述入口突出体呈现所述内表面的入口 部分并且形成所述第一反应区的部分，其中所述内表面的总面积的至少50％ 具有立式取向；以及

第二级反应器段，所述第二级反应器被设置为一般地在所述第一级反应 器段之上，并且界定第二反应区。

2.如权利要求1所述的反应器系统，还包括在所述第一和第二反应器段 之间提供流体连通的喉段。

3.如权利要求1所述的反应器系统，其中所述内表面的总面积的至少 90％具有基本上竖直取向。

4.如权利要求1所述的反应器系统，其中所述内表面的总面积的少于 10％具有朝上取向，和/或所述内表面的总面积的少于10％具有朝下取向。

5.如权利要求1所述的反应器系统，其中所述入口突出体位于基本上相 同的高度。

6.如权利要求1所述的反应器系统，其中每个所述入口突出体一般为截 头锥体的形状。

7.如权利要求1所述的反应器系统，其中所述第一级反应器段包括一对 所述入口突出体，所述入口突出体从所述主体的一般相对的侧向外延伸。

8.如权利要求7所述的反应器系统，其中所述主体的最大内径为位于紧 邻所述一对入口突出体中每一个的所述远端的所述入口之间的水平距离的至 少30％。

9.如权利要求1所述的反应器系统，其中所述主体和所述入口突出体协 同界定所述第一反应区，其中所述第一反应区总体积的少于50％被界定在所 述入口突出体内。

10.如权利要求1所述的反应器系统，其中所述主体的最大外径比所述 入口突出体的最大外径大至少25％。

11.如权利要求1所述的反应器系统，其中所述第一反应区的最大高度 与所述第一反应区的最大宽度之比在从1:1到5:1的范围内。

12.如权利要求1所述的反应器系统，其中所述反应器系统包括至少三 个所述入口突出体。

13.如权利要求1所述的反应器系统，其中所述反应器系统包括金属容 器和至少部分地为所述金属容器内部加衬里的耐火材料，其中所述耐火材料 呈现所述内表面的至少部分。

14.如权利要求1所述的反应器系统，其中所述反应器系统包括整体式 气化反应器。

15.一种用于气化原料的反应器系统，所述反应器系统包括：

竖直细长的主体；

一对入口突出体，所述入口突出体从所述主体一般相对的侧向外延伸， 其中所述主体和所述入口突出体协同界定一反应区，并且其中所述入口突出 体形成所述反应区的部分；以及

至少一个入口，所述入口定位在每个所述入口突出体上，其中每个入口 可操作来将所述原料排放到所述反应区中，

其中所述主体的最大外径比所述入口突出体的最大外径大至少25％。

16.如权利要求15所述的反应器系统，其中所述主体和所述入口突出体 呈现协同界定所述反应区的多个内表面，其中所述内表面的总面积的至少 50％具有立式取向。

17.如权利要求15所述的反应器系统，其中所述主体和所述入口突出体 呈现协同界定所述反应区的多个内表面，其中所述内表面的总面积的少于 10％具有朝下取向。