[发明专利]处理玻璃衬底表面的方法

权利要求书

1.一种通过处理技术来处理玻璃衬底表面的方法，所述处理技术选自离子束腐蚀、气体簇离子束腐蚀、等离子体腐蚀和纳米磨蚀，

其中在对所述玻璃衬底表面进行处理之前，沿所述玻璃衬底的周围设置框架部件，所述框架部件满足下列要求(1)和(2)：

(1)所述框架部件的高度和所述玻璃衬底表面的高度之差为1mm以下；以及

(2)所述框架部件的宽度不小于在所述处理技术中使用的离子束直径或激光直径的一半。

2.如权利要求1所述的处理玻璃衬底表面的方法，其中所述玻璃衬底由低膨胀玻璃制成，所述低膨胀玻璃在20℃或50～80℃的热膨胀系数为-30～30ppb/℃。

3.如权利要求1或2所述的处理玻璃衬底表面的方法，其中所述框架部件由与待处理的玻璃衬底相同的玻璃材料制成。

4.如权利要求1或2所述的处理玻璃衬底表面的方法，其中所述框架部件由选自由聚酰亚胺、Ni-Cr合金、铍和单晶蓝宝石组成的组中的任意一种制成，或者所述框架部件的表面被选自所述组中的任意一种涂布或镀敷。

5.如权利要求1～4中任一项所述的处理玻璃衬底表面的方法，其中在处理之前，所述玻璃衬底的表面粗糙度(Rms)为5nm以下。

6.如权利要求1～5中任一项所述的处理玻璃衬底表面的方法，其中所述处理技术为气体簇离子束腐蚀。

7.如权利要求6所述的处理玻璃衬底表面的方法，其中所述气体簇离子束腐蚀使用气体混合物作为原料气体，所述气体混合物选自：含SF₆和O₂的气体混合物；含SF₆、Ar和O₂的气体混合物；含NF₃和O₂的气体混合物；含NF₃、Ar和O₂的气体混合物；含NF₃和N₂的气体混合物；以及含NF₃、Ar和N₂的气体混合物。

8.如权利要求7所述的处理玻璃衬底表面的方法，其中所述原料气体为含NF₃和N₂的气体混合物。

9.如权利要求1～8中任一项所述的处理玻璃衬底表面的方法，还包括：对经处理的玻璃衬底表面进行第二处理，以改善表面粗糙度。

10.如权利要求9所述的处理玻璃衬底表面的方法，其中所述第二处理为气体簇离子束腐蚀，其使用单独的O₂气体或含O₂和选自Ar、CO和CO₂中的至少一种气体的气体混合物作为原料气体，并在3keV～小于30keV的加速电压下进行。

11.如权利要求9所述的处理玻璃衬底表面的方法，其中所述第二处理为在1～60gf/cm²的表面压力下利用研磨浆体进行的机械研磨。

12.一种框架，其在通过权利要求1～10中任一项的处理玻璃衬底表面的方法对玻璃衬底表面进行处理时沿所述玻璃衬底的周围设置，所述框架满足下列要求(3)和(4)：

(3)沿所述玻璃衬底的周围设置的所述框架的高度与所述玻璃衬底表面的高度之差为1mm以下；以及

(4)所述框架的宽度为1.5mm以上。

13.如权利要求13所述的框架，其中所述框架由选自由聚酰亚胺、Ni-Cr合金、铍和单晶蓝宝石组成的组中的任意一种制成，或者所述框架的表面被选自所述组中的任意一种涂布或镀敷。

14.如权利要求12所述的框架，其由含TiO₂的石英玻璃制成。

15.一种玻璃衬底，其具有通过权利要求1～11中任一项的方法处理的表面，所述玻璃衬底中心部的衬底表面平坦度与所述玻璃衬底整体部的衬底表面平坦度之差为20nm以下，所述中心部和整体部是指如下：

中心部：除外周边缘起至10mm为止的区域以外的区域；

整体部：除外周边缘起至5mm为止的区域以外的区域(整体部包括中心部)。