[发明专利]指纹成像系统

权利要求书

1.一种被配置为捕获主体的摩擦嵴图案的图像的指纹成像系统，所述系统包括：

被配置为啮合主体的摩擦嵴图案的压板；

被配置为以电子方式捕获与所述压板啮合的摩擦嵴图案的图像的图像捕获设备；

光学分析器，被配置为，除非入射辐射具有需要的偏振，否则阻止入射在其上的辐射，所述光学分析器位于所述系统内，遮蔽所述图像捕获设备以阻止其接收没有所述需要的偏振的辐射，从而，所述光学分析器阻止通过所述压板进入所述系统并且本来会入射到所述图像捕获设备上的没有需要的偏振的环境光。

2.根据权利要求1所述的系统，进一步包括如此安置的偏振器，以便从所述压板向所述分析器发出的全部辐射，或基本上全部辐射，在入射到所述分析器之前入射到所述偏振器上，所述偏振器被配置为向入射在其上的辐射提供的偏振不同于所述需要的偏振。

3.根据权利要求2所述的系统，其中，所述偏振器置于所述压板和所述分析器之间。

4.根据权利要求3所述的系统，进一步包括偏振部件，被配置为将入射在其上的辐射的偏振从由所述偏振器提供给辐射的偏振改变为需要的偏振。

5.根据权利要求4所述的系统，进一步包括被配置为向所述压板发射辐射的辐射源，以便如果所述摩擦嵴与所述压板啮合，则所发射的辐射的一部分，(i)从所述压板上所述摩擦嵴和所述压板之间的交界面处或附近的区域反射，(ii)被所述偏振器偏振，(iii)入射到所述偏振部件上，(iv)穿过所述分析器，以及(v)入射到所述图像捕获设备上。

6.根据权利要求4所述的系统，其中，所述偏振部件包括延迟器和/或波片。

7.根据权利要求6所述的系统，其中，所述偏振部件包括四分之一波片。

8.根据权利要求6所述的系统，其中，所述需要的偏振是圆偏振或者线性偏振。

9.根据权利要求1所述的系统，进一步包括聚焦透镜，被配置为将压板和与压板啮合的指纹嵴图案的图像聚焦到图像捕获设备上，其中，所述聚焦透镜相对于所述图像捕获设备是偏轴的，并且其中，所述聚焦透镜相对于所述图像捕获设备是倾斜的。

10.一种被配置为捕获主体的摩擦嵴图案的图像的指纹成像系统，所述系统包括：

被配置为啮合主体的摩擦嵴图案的压板；

被配置为以电子方式捕获与所述压板啮合的摩擦嵴图案的图像的图像捕获设备；以及

辐射发射模块，被配置为向所述压板提供辐射，以便由所述辐射发射模块所提供的辐射的至少一部分在摩擦嵴图案和压板之间的啮合处或附近被所述压板反射，并构成了将被所述图像捕获设备捕获的所述摩擦嵴图案的图像，所述辐射发射模块包括：

光源，被配置为发射导向所述压板的辐射；

置于所述光源和所述压板之间的线性偏振器；以及

置于所述光源和所述压板之间的四分之一波长延迟器。

11.根据权利要求10所述的系统，其中，所述光源包括被配置为向所述压板发射辐射的背光单元。

12.根据权利要求10所述的系统，其中，四分之一波长延迟器包括延迟器膜，并且其中，所述线性偏振器包括背靠所述延迟器膜的线性偏振器膜。

13.根据权利要求10所述的系统，进一步包括光学分析器，被配置为，除非入射辐射具有需要的偏振，否则阻止入射在其上的辐射，所述光学分析器位于系统内，遮蔽所述图像捕获设备以阻止其接收没有所述需要的偏振的辐射，从而，所述光学分析器阻止通过所述压板进入所述系统并且本来会入射到所述图像捕获设备上的没有需要的偏振的环境光。

14.根据权利要求10所述的系统，其中，所述四分之一波长延迟器位于与所述光源关联的反射器上。

15.根据权利要求10所述的系统，其中，所述偏振器位于所述四分之一波长延迟器和所述压板之间。