[发明专利]用于图像编码和图像解码的方法和设备有效

专利信息
申请号: 200880009532.4 申请日: 2008-01-10
公开(公告)号: CN101641955A 公开(公告)日: 2010-02-03
发明(设计)人: 孙有美;韩宇镇 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H04N7/24 分类号: H04N7/24
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 代理人: 韩明星;马翠平
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 图像 编码 解码 方法 设备
【权利要求书】:

1.一种图像编码方法,所述方法包括:

通过划分残差块来产生具有预定大小的第一多个子残差块;

通过使用先前处理的与所述残差块邻近而没有包括在所述残差块中的邻 近子残差块的残差来产生所述第一多个子残差块的预测子残差块;

通过计算预测子残差块与所述第一多个子残差块之间的差值来产生差值 子残差块;以及

对所述差值子残差块进行变换。

2.如权利要求1所述的方法,其中,如果残差块的大小是N×N,其中, N是大于等于2的正数,则产生所述第一多个子残差块的步骤包括:将残差 块划分为大小为N×1、1×N和a×a之一的第一多个子残差块,其中,a是 小于N的自然数。

3.如权利要求2所述的方法,其中,对所述差值子残差块进行变换的步 骤包括:对大小为N×1和1×N之一的第一多个子残差块执行一维离散余弦 变换DCT。

4.如权利要求1所述的方法,其中,通过使用先前处理的邻近子残差块 的残差来执行产生预测子残差块的步骤,其中,通过将经过变换、量化、逆 量化和逆变换的先前处理的邻近子残差块的差值子残差块与先前处理的邻近 子残差块的预测子残差块相加来恢复所述先前处理的邻近子残差块的残差。

5.如权利要求1所述的方法,其中,产生预测子残差块的步骤包括:通 过根据所述第一多个子残差块的划分类型沿水平和垂直方向中的至少一个来 扩展多个先前处理的邻近子残差块中的一先前处理的邻近子残差块的残差, 来预测当前子残差块的残差。

6.如权利要求1所述的方法,还包括:

将所述残差块划分为具有不同于产生的第一多个子残差块的大小的第二 多个子残差块;

通过使用先前处理的邻近子残差块的残差来产生具有不同大小的所述第 二多个子残差块的预测子残差块;

通过计算具有不同大小的所述第二多个子残差块与预测子残差块之间的 差值来产生差值子残差块;以及

对具有不同大小的所述第二多个子残差块的差值子残差块进行变换。

7.如权利要求6所述的方法,还包括:通过比较通过对具有不同大小的 所述第二多个子残差块的差值子残差块进行编码产生的比特流的代价来确定 残差块的划分模式。

8.如权利要求6所述的方法,还包括:将通过对具有不同大小的所述第 二多个子残差块的差值残差块进行编码而产生的比特流的代价与通过绕过残 差块的变换而对残差块进行量化和熵编码而产生的比特流的代价进行比较。

9.一种图像编码设备,所述设备包括:

划分单元,用于通过划分残差块来产生具有预定大小的第一多个子残差 块;

残差预测单元,用于通过使用先前处理的与所述残差块邻近而没有包括 在所述残差块中的邻近子残差块的残差来产生所述第一多个子残差块的预测 子残差块;

减法单元,用于通过计算预测子残差块与所述第一多个子残差块之间的 差值来产生差值子残差块;以及

变换单元,用于对所述差值子残差块进行变换。

10.如权利要求9所述的设备,其中,如果残差块的大小是N×N,其 中,N是大于等于2的正数,则划分单元将残差块划分为大小为N×1、1×N 和a×a之一的第一多个子残差块,其中,a是小于N的自然数。

11.如权利要求10所述的设备,其中,变换单元对大小为N×1和1× N之一的第一多个子残差块执行一维离散余弦变换DCT。

12.如权利要求9所述的设备,其中,残差预测单元使用通过将经过变 换、量化、逆量化和逆变换的先前处理的邻近子残差块的差值子残差块与先 前处理的邻近子残差块的预测子残差块相加而恢复的所述先前处理的邻近子 残差块的残差。

13.如权利要求9所述的设备,其中,残差预测单元通过根据所述第一 多个子残差块的划分类型沿水平和垂直方向中的至少一个来扩展多个先前处 理的邻近子残差块中的一先前处理的邻近子残差块的残差,来预测当前子残 差块的残差。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880009532.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top