[实用新型]一种激光聚焦泵浦装置有效
| 申请号： | 200820222760.7 | 申请日： | 2008-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN201298657Y | 公开（公告）日： | 2009-08-26 |
| 发明（设计）人： | 孙建华;李国华 | 申请（专利权）人： | 西安华科光电有限公司 |
| 主分类号： | H01S3/0941 | 分类号： | H01S3/0941 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 | 代理人： | 商宇科 |
| 地址： | 710075陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 激光 聚焦 装置 | ||
1、一种激光聚焦泵浦装置，包括LD泵浦激光光源和设置在LD泵浦激光光源的输出光轴上的谐振腔，其特征在于：该装置还包括设置在LD泵浦激光光源的输出光轴上的自聚焦透镜；所述自聚焦透镜设置在LD泵浦激光光源和谐振腔之间。
2、根据权利要求1所述的激光聚焦泵浦装置，其特征在于：所述自聚焦透镜是直径为φ0.2mm～φ5mm、长度为0.1P～4P的圆柱体自聚焦透镜。
3、根据权利要求2所述的激光聚焦泵浦装置，其特征在于：所述圆柱体自聚焦透镜是适用波长为400nm～1342nm的激光的圆柱体自聚焦透镜。
4、根据权利要求1或2或3所述的激光聚焦泵浦装置，其特征在于：所述谐振腔是平面谐振腔或平凹谐振腔。
5、根据权利要求4所述的激光聚焦泵浦装置，其特征在于：所述平面谐振腔由用于变频的第一晶体和用于倍频的第二晶体胶合而成；所述用于变频的第一晶体和用于倍频的第二晶体依次设置在LD泵浦激光光源的输出光轴上；所述平面谐振腔的两端面上镀有反射膜。
6、根据权利要求5所述的激光聚焦泵浦装置，其特征在于：所述LD泵浦激光光源是808nm的半导体激光二极管。
7、根据权利要求4所述的激光聚焦泵浦装置，其特征在于：所述平凹谐振腔由用于变频的第三晶体、用于倍频的第四晶体和平凹反射镜组成，所述用于变频的第三晶体、用于倍频的第四晶体和平凹反射镜依次设置在LD泵浦激光光源的输出光轴上；所述第一晶体的入射端面上镀有反射膜。
8、根据权利要求6所述的激光聚焦泵浦装置，其特征在于：所述平凹透镜是光学玻璃透镜。
9、根据权利要求7所述的激光聚焦泵浦装置，其特征在于：所述LD泵浦激光光源是808nm的半导体激光二极管。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安华科光电有限公司，未经西安华科光电有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200820222760.7/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
