[实用新型]一种三银低辐射镀膜玻璃无效
申请号: | 200820148442.0 | 申请日: | 2008-08-11 |
公开(公告)号: | CN201250183Y | 公开(公告)日: | 2009-06-03 |
发明(设计)人: | 郭明;王秀丽;孟怡敏 | 申请(专利权)人: | 洛阳新晶润工程玻璃有限公司 |
主分类号: | C03C17/36 | 分类号: | C03C17/36 |
代理公司: | 郑州中民专利代理有限公司 | 代理人: | 郭中民 |
地址: | 471000河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 三银低 辐射 镀膜 玻璃 | ||
技术领域
本实用新型属于一种镀膜玻璃,主要涉及一种十一层膜结构的三银低辐射镀膜玻璃。
背景技术
低辐射镀膜玻璃是指在玻璃表面沉积一层高红外线反射材料(金属银),使玻璃吸收太阳光光谱中的红外线和其它物体发出的红外线非常少,玻璃自身又不存储能量,因此镀膜玻璃向外辐射的红外线也非常少,称为低辐射镀膜玻璃。该玻璃用于窗户上,可有效地阻挡太阳光中的红外线进入室内,降低夏天室内温度,节约空调制冷费用,冬天可以阻挡室内物体发出的红外线被玻璃吸收,散发到室外,提高室内温度,节约取暖费用。
现在市场上已经有很多种低辐射镀膜玻璃产品,第一层膜有用氧化锡的,也有用氧化锌的,第二层膜都是银膜,也有前面加一层镍铬膜的结构,第三层都用镍铬层,第四层主要为保护膜。
发明内容
本实用新型目的是提供一种十一层膜结构的三银低辐射镀膜玻璃,使其具有辐射率低的优点。
本实用新型的目的可采用如下技术方案来实现:其具有玻璃基片,在玻璃基片表面上从底层向上依次镀有氧化锡膜层、银膜层、镍铬膜层、氧化锡膜层、银膜层、镍铬膜层、氧化锡膜层、银膜层、镍铬膜层、氧化锡膜层、氮化硅膜层,从而构成十一层膜结构的三银低辐射镀膜玻璃。
该产品具有生产效率高,辐射率非常低,小于0.04,耐磨性能和耐氧化、耐腐蚀性能好的优点。
附图说明
附图1为本实用新型的具体结构示意图。
图中:1、玻璃基片,2、氧化锡膜层,3、银膜层,4、镍铬膜层,5、氧化锡膜层,6、银膜层7、镍铬膜层,8、氧化锡膜层,9、银膜层,10、镍铬膜层,11、氧化锡膜层,12、氮化硅膜层。
具体实施方式
结合附图,说明本实用新型的具体实施例。
如附图1所示:其具有玻璃基片1,在玻璃基片表面从底层向上依次镀有氧化锡膜层2、银膜层3、镍铬膜层4、氧化锡膜层5、银膜层6、镍铬膜层7、氧化锡膜层8、银膜层9、镍铬膜层10、氧化锡膜层11、氮化硅膜层12,从而构成十一层膜结构的三银低辐射镀膜玻璃。
本实用新型是在真空环境下,通过磁控溅射在玻璃表面沉积十一层膜的方法,生产一种红外线辐射率很低的,包含有三个银层的低辐射镀膜玻璃。
所述的低辐射镀膜玻璃是在镀膜室抽真空至1.1×10-4Pa以下,充入工艺气体(氧气或氮气或氩气),使镀膜室压力稳定在0.3Pa左右,将溅射源送电,靶材开始溅射,送入玻璃将靶材原子或其化合物沉积到玻璃表面。第一个镀膜室充入氧气,靶材为锡靶,将氧化锡膜沉积到玻璃表面为第一层膜,厚度20至60纳米,第二个镀膜室充入氩气,靶材为银靶,在氧化锡上面沉积第二层银膜,厚度1至10纳米;第三个镀膜室充入氩气,靶材为镍铬靶,在银膜上沉积第三层镍铬膜,厚度3至10纳米;第四个镀膜室充入氧气,靶材为锡靶,在镍铬膜上沉积第四层氧化锡膜,厚度15至60纳米;第五个镀膜室充入氩气,靶材为银靶,在氧化锡上面沉积第五层银膜,厚度1至10纳米;第六个镀膜室充入氩气,靶材为镍铬靶,在银膜上沉积第六层镍铬膜,厚度3至10纳米;第七个镀膜室充入氧气,靶材为锡靶,在镍铬膜上沉积第七层氧化锡膜,厚度15至30纳米;第八个镀膜室充入氩气,靶材为银靶,在氧化锡上面沉积第八层银膜,厚度1至10纳米;第九个镀膜室充入氩气,靶材为镍铬靶,在银膜上沉积第九层镍铬膜,厚度3至10纳米;第十个镀膜室充入氧气,靶材为锡靶,在镍铬膜上沉积第十层氧化锡膜,厚度15至60纳米;第十一个镀膜室充入氮气,靶材为硅靶,在氧化锡膜上沉积第十一层氮化硅膜,厚度15~30纳米。
第二层、第五层和第八层的银膜起到降低镀膜玻璃辐射率的作用,三层不相邻的银膜,可以产生比一层、两层银膜性能好很多,即辐射率低很多的性能。第一层、第十层氧化锡膜和第十一层氮化硅膜都起保护银膜和镍铬膜的作用,提高膜层的耐磨性能和耐氧化、耐腐蚀性能。
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