[实用新型]一种扫描标准具无效
| 申请号: | 200820145692.9 | 申请日: | 2008-09-23 |
| 公开(公告)号: | CN201289403Y | 公开(公告)日: | 2009-08-12 |
| 发明(设计)人: | 吴砺;马英俊;陈锦;胡企铨;凌吉武 | 申请(专利权)人: | 福州高意通讯有限公司 |
| 主分类号: | G01J9/00 | 分类号: | G01J9/00;G01J3/28;G02B26/10 |
| 代理公司: | 厦门市诚得知识产权代理事务所 | 代理人: | 方惠春;黄国强 |
| 地址: | 350000福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 扫描 标准 | ||
技术领域
本实用新型涉及激光测量领域,尤其涉及一种测量激光器输出波长状态的扫描标准具。
背景技术
长期以来,测量激光器输出波长状态多用压电陶瓷驱动空气隙的扫描标准具,如专利申请号:200720007833的专利公开了一种温度补偿的扫描标准具,其包括标准具腔片、压电陶瓷片PZT,标准具腔片包括两个腔片,其中一片为平行片腔片,设在压电陶瓷片PZT上,另一片腔片的平面与平行片腔片平行并有间隔,其另一片腔片设在压电陶瓷片PZT的温度补偿块和玻璃块叠加之上,压电陶瓷片PZT和压电陶瓷片PZT的温度补偿块固定在标准具支架上,采用以上结构,保证标准具两个腔片之间的间隔不随温度变化。但是其系统复杂而且价格较昂贵。从而使很多实验室不具有相应扫描干涉具。
实用新型内容
为此本实用新型提出一种制作简易价格低廉扫描标准具用于测量激光器纵模分布状态。
本实用新型采用如下技术方案:
一种扫描标准具,包括:标准具、部分反射镜、可转动的机械件、光电探测器、示波器。所述标准具放置于可转动的机械件中,光束通过校准入射光方向的部分反射镜进入标准具,所述的标准具由所述的可转动的机械件驱动旋转固定角度,所述的光电探测器设置于标准具的光束出射侧,所述的示波器与所述的光电探测器连接。
进一步的,所述的可转动的机械件上连接有继电器,继电器驱动所述的可转动的机械件驱动旋转固定角度。
进一步的,所述的光电探测器为光强变化与电流变化函数关系的器件。通过示波器同步观察所述的光电探测器的电流波形。
本实用新型可以采用一组不同波段范围标准具单独插件,亦可以将一组不同波段标准具同时装配在转轴不同位置。
本实用新型采用上述技术方案,故结构简单,成本低廉,体积小,因此可以制作成低成本光学探头,测量特定波段激光光谱分布,可广泛应用于教学实验室,以及作为激光器波长简易监视器装在激光器中。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图;
图2是本实用新型的示波器的波形图。
具体实施方式
现结合附图说明对本实用新型进一步说明。
参阅图1,101为标准具,102为固定101的转轴,1031、1032为上滚动轴承和下滚动轴承,1041、1042为上滚动轴承支架和下滚动轴承支架,105为光电探测器,106为作为校准入射光方向部分反射镜,107为继电器,108为带沟槽连接传动块,109为连接杆,110为驱动电源,111为待测入射光,112为示波器,标准具101、转轴102、上滚动轴承1031和下滚动轴承1032、上滚动轴承支架1041和下滚动轴承支架1042、光电探测器105、部分反射镜106、继电器107、带沟槽连接传动块108、连接杆109,驱动电源110构成本实用新型的简易扫描标准具。
本实用新型的工作原理是:标准具101放置可转动的机械件102中,入射光通过106使入射光路返回保证入射光进入标准具的一致性。
继电器107可以处在开与关两个状态,在两个状态转换上,舌簧会在几个ms时间内快速平移,带沟槽连接传动块108推动连接杆109,连接杆109又带动转轴102快速旋转一个固定角度,转轴102带动标准具101转动一个角度,当标准具101转动时,入射光入射角不同透过波长光强不同,从标准具101透射光的光强将随时间变化,光电探测器105接收标准具101透射光,并转为电流信号,光电探测器105产生电流信号可在示波器112上显示,从可从光电流时间谱得出入射光波长分布。驱动电源110可以发出触发信号可送到示波器112中从示波器112触发信号,同时触发继电器107从而可实现光电流信号同步观察。
本实用新型所述标准具,可以是一组不同波段标准具,测不同波段激光波长分布换上不同标准具插块;或在转轴102上直接在不同位置放置不同波段标准具从而获得测量不同波段激光波长分布功能。由于本实用新型结构简单,成本低廉,体积小,因此可以制作成低成本光学探头,测量特定波段激光光谱分布,可广泛应用于教学实验室,以及作为激光器波长简易监视器装在激光器中。
尽管结合优选实施方案具体展示和介绍了本实用新型,但所属领域的技术人员应该明白,在不脱离所附权利要求书所限定的本实用新型的精神和范围内,在形式上和细节上可以对本实用新型做出各种变化,均为本实用新型的保护范围。
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