[实用新型]一种内传输转轴单元快拆结构有效
申请号: | 200820129480.1 | 申请日: | 2008-08-18 |
公开(公告)号: | CN201272828Y | 公开(公告)日: | 2009-07-15 |
发明(设计)人: | 黎瑞海 | 申请(专利权)人: | 凌嘉科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 许 静 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 传输 转轴 单元 结构 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种快速拆卸的组装结构,特别指一种应用于真空溅镀的腔体转轴单元的快拆结构。
背景技术
真空溅镀技术是真空薄膜制程中应用层面相当广泛的一项重要技术,近年来己逐渐取代喷导电漆或电解电镀等方式,大量应用在光电、通信及半导体等产业,成为相当重要的表面处理技术。
参阅图1所示,一般真空溅镀技术,利用磁控溅镀阴极板11,将离子化的气体分子13以高速轰击激发镀材18,使镀膜分子12均匀散布在真空腔体10内各个角落,再藉由电位差高速溅射在被镀物19表面上,进而达到镀膜的目的。
而因应真空溅镀制程应用层面日广,为增加相关镀膜产品的产业竞争力,目前现有大部分溅镀设备为连续式多腔体型式,以取代传统批次式或晶圆式生产方式。如图2所示,连续式传输作业流程如可概分为进料区、溅镀区及出料区三个区域。每一个区域都至少由一真空腔体10组成,再利用传输机构将被镀物19输送至不同区域的真空腔体10内进行各项程序作业。而一般连续式真空溅镀设备其自动化传输机构皆利用极限开关及摩擦原理来完成不同腔体之间传输顺序。
请再参阅图3,每个腔体分别具有一部伺服马达13带动真空腔体10底部前端的第一个轮轴14,再藉由链条17带动后半部的轮轴14,托盘12则置于轮轴14两侧的胶环16上方,藉由托盘12与胶环16之间摩擦力的作动下,将托盘12带动至下一个真空腔体10,达成连续式的作业目的。
在进行溅镀作业期间,真空腔体10某些内部污染物是无法避免的,如被轰击激发的镀膜分子12均匀散布在真空腔体10四周,一部分成功溅镀在被镀物19表面而达到镀膜的目的,而某部份散布在其它角落的镀膜分子12,便会逐渐沉积在真空腔体10底部及传输机构如轮轴14、链条17表面等。一段时间下来,真空腔体10内壁会残留镀膜分子12沉积物,此沉积物挥发将造成真空腔体内部污染,为维持镀膜高质量要求,溅镀设备必须定时停机保养,拆卸真空腔体10内部零件,刮除抛光真空腔体10内壁表面镀膜分子12沉积物后,方可重新组合真空腔体10再次使用。
然而,如图3所示,一般组设于该真空腔体10内的轮轴14,其二端结合于二相对的轮轴固定座15间时,将该轮轴14杆体端穿过轮轴固定座15对应圆孔后,再利用螺锁等方式固定。故当有某一轮轴14损坏须更换,或使用者欲清除沉积物时,必须将轮轴固定座15自其位置拆卸,方能将轮轴14取出作清除作业,而无法就单一的轮轴14进行维修,或折卸的清洁工作,大大降低设备的稼动率及使用率,而有加以改良的必要。
实用新型内容
本实用新型的主要目的,在于解决上述的问题而提供一种内传输转轴单元快拆结构,其令真空溅镀用于输送载盘的转轴单元,能具有快速拆卸、装设于框架上的特点。
为实现上述目的,本实用新型的内传输转轴单元快拆结构应用于真空溅镀的设备,由一腔体,以及组设于该腔体内的框架、多个转轴单元、一载盘、一伺服马达,以及二导引单元等构件组成。将这些转轴单元等间隔枢组于该框架上,且该框架供这些转轴单元枢固的位置,形成多个开放的容置槽,并于相邻容置槽的一外侧边缘成型一较大圆径的定位槽,且各该容置槽侧边适处另形成多个供螺丝穿设的通孔。而各该转轴单元跨置于该框架多个呈横向平行的容置槽上,其上除等距套设有多个滚轮外,并于对应各该容置槽适当处设有多个轴承座,各该轴承座内缘可供轴承置设,外部一外侧突设有一凸轴部,以及二呈相对的螺孔部。当转轴单元置设于这些容置槽内时,各该凸轴部恰可容置于对应的定位槽内,再二螺丝分别穿过该通后,螺锁于该轴承座的锁孔部,以固定该转轴单元,达到精准且稳固定位的组装效果。其次,该载盘放置于这些转轴单元的滚轮上,且这些转轴单元彼此之间,可通过多个皮带,该伺服马达作传动连结。而该二导引单元设于该腔体内对应载盘位置的二侧,各该导引单元由二导轮座、多个导轮与枢轴,以及一盖板等构件组成。各该导轮座上形成有多个轮孔,且各该轮孔对应该载盘的内侧剖设一缺口,当各该导轮利用枢轴枢组于轮孔内时,这些导轮的轮面凸出于该缺口,再通过该盖板盖设于该二导轮座上端面而固定。以当该载盘在这些滚轮上被输送位移时,可通过该二导引单元导正其输送的路径,避免产生不当的偏移情形。
附图说明
图1:真空溅镀原理示意图。
图2:现有连续式溅渡作业流程示意图。
图3:现有真空腔体立体分解图。
图4:本实用新型的立体分解图。
图5:本实用新型局部放大的立体分解图。
图6:实用新型导引单元应用的简易示意图。
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