[实用新型]量具

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种量测晶圆与点胶机喷嘴之间间距的量具。

背景技术

一般，在半导体制程的光刻工艺中，光刻胶用于在晶圆表面上形成图案。所述光刻胶通常为光敏性化学物质，并会在特定范围的光波长下感光。根据所使用光刻胶的型态，曝光后的结构与性质的改变通常形成可溶或是不可溶的状态。在个别状况中，经曝光的光刻胶在曝光后被显影，光刻胶的显影通常将可溶部分的光刻胶移除，而残留的不可溶部分的光刻胶则定义出图案。

为了在光刻胶中定义出更佳的特征图案，光刻胶必须均匀地黏著于晶圆表面，具有均匀的分布及足够的厚度。一般光刻胶是通过设于晶圆上方的喷嘴将光刻胶喷涂于晶圆的中央，再通过旋转将光刻胶均匀分布至整个晶圆，经过曝光及后续的显影而定义出图案。其中，为确保光刻胶的喷涂效果及后续曝光与显影后的图案质量，喷嘴与晶圆之间的间距是需要考量的一个重要因素，所述间距须满足一定范围要求。因此，在操作过程中，在喷涂光刻胶之前，须对喷嘴与晶圆之间的间距进行量测，若发现所量测到间距是在所允许的范围之外，则需对喷嘴或晶圆进行位置调整，以使得二者之间的间距满足生产规范的要求。因此，在光刻工艺中包括有量测喷嘴与晶圆之间的间距的操作。

一般，量测操作是通过量尺或者基本块来进行量测。如图1a所示，使用量尺100进行量测，是将量尺100对应地比照于晶圆10与喷嘴12之间，并通过人眼目视出该量尺的标度，显而易见地，该量测方法因包括有人的主观参与(例如目视量尺并判定其标度)而易产生差错(例如因目视角度而误读量尺的标度)。另外，如图1b所示，使用基本块进行量测，是提供有多个不同尺度的基本块120，且不同基本块120之间具有一定的尺度差。举例来讲，所述基本块120例如为0.5mm、0.3mm、0.1mm、0.05mm等。于测试时，通过某一个基本块120或多个相互叠合的基本块120置于晶圆10与喷嘴12之间来量测其间距G。然而，该量测方法有其不足：一，所述的多个基本块具有一定的规格，其量测误差取决于最小的基本块的规格(例如为0.05mm)，而无法对小于该最小的基本块的规格的尺度进行量测，仍无法达到准确量测的目的；二，在将基本块推入喷嘴与晶圆之间的过程中，无法避免在较小间距状况下较大规格的基本块推入时对喷嘴的损伤。

实用新型内容

本实用新型解决的问题是提供一种用于量测晶圆与点胶机喷嘴之间间距的量具，避免量测时产生误差。

为解决上述问题，本实用新型提供一种量具，用于量测晶圆与点胶机喷嘴之间的间距，所述量具包括：底板，量测时位于晶圆与点胶机喷嘴之间；设于所述底板的倾斜体，在斜面或沿面标有标识间距尺度的刻度。

可选地，所述倾斜体包括锲形结构的截面。

可选地，所述底板与倾斜体可以是一体成型或结合成型。

可选地，所述底板包括与所述晶圆一致的圆盘，所述倾斜体包括沿所述底板中心而对称设置的二倾斜子体。

可选地，所述倾斜子体包括四分之一圆的投影范围。

可选地，所述倾斜子体包括在所述投影范围内自底板表面渐次向上所形成的斜面。所述倾斜子体包括锲形结构的截面。

可选地，所述底板与倾斜子体可以是一体成型或结合成型。

相较于现有技术，本实用新型提供了量测间距的量具，所述量具包括有底板与设于底板上的倾斜体。所述量具可以对不同范围内的间距进行量测，避免量测时产生误差，提高量测的准确度。

另外，所述量具只需位于晶圆与点胶机喷嘴之间并渐次推动或旋转以使其抵触在二者之间即可完成量测，相对现有技术通过量尺或基本块量测，操作简单，节省量测的时间。

再有，所述量具的倾斜体的结构特征，可避免出现现有技术中通过基本块量测易在推动过程中对点胶机喷嘴造成损伤情形的产生，可延长点胶机喷嘴的使用寿命。

附图说明

图1a及图1b是显示利用现有的量尺及基本块进行间距量测的侧视图；

图2是本实用新型量具的一实施例的斜侧视图；

图3是本实用新型量具的一实施例应用于间距量测的的侧视图；

图4是本实用新型中量具另一实施例的斜侧视图；

图5为本实用新型中量具的另一实施例应用于间距量测的的侧视图。

具体实施方式

本实用新型提供一种用于量测晶圆与点胶机喷嘴之间间距的量具，包括底板以及设于底板的倾斜体。下面将结合附图对本实用新型的实施例进行说明。