[发明专利]坩埚加热装置和包括该坩埚加热装置的淀积装置

权利要求书

1.一种坩埚加热装置，包括：

坩埚；

带，与所述坩埚的下侧相连，具有用于接触所述坩埚的下侧的接触部分；

热电偶，具有与所述带相连的第一端子；

壳体，用于容纳所述坩埚和所述带；和

加热器，设置在所述壳体内部，用于加热容纳于所述坩埚内的淀积材料。

2.如权利要求1所述的坩埚加热装置，其中，所述热电偶连接至位于 所述壳体底部附近的所述带的一部分。

3.如权利要求1所述的坩埚加热装置，进一步包括与所述热电偶的第 二端子相连的温度控制器。

4.如权利要求1所述的坩埚加热装置，其中，所述接触部分和所述带 的其余部分由相同的材料形成。

5.如权利要求4所述的坩埚加热装置，其中，所述相同的材料为不锈 钢。

6.如权利要求1所述的坩埚加热装置，其中，所述接触部分从所述带 的上部弯曲。

7.如权利要求1所述的坩埚加热装置，其中，所述加热器环绕所述坩 埚。

8.如权利要求1所述的坩埚加热装置，其中，所述热电偶与所述加热 器绝缘。

9.如权利要求1-8任一项所述的坩埚加热装置，所述接触部分是柔韧 的。

10.如权利要求1所述的坩埚加热装置，其中所述接触部分被弯曲用于 接触所述坩埚的下侧。

11.如权利要求10所述的坩埚加热装置，其中，所述接触部分为梯形、 半圆形、三角形或者长方形。

12.如权利要求10所述的坩埚加热装置，其中，形成在所述带上的切 口分割所述接触部分。

13.如权利要求10所述的坩埚加热装置，进一步包括与所述热电偶的 第二端子相连的温度控制器。

14.一种淀积装置，包括：

腔室；

图案掩膜，设置在所述腔室的上部；和

坩埚加热装置，包括：

坩埚，

带，与所述坩埚的下侧相连，具有用于接触所述坩埚的下侧的接 触部分，

热电偶，具有与所述带相连的第一端子，

壳体，用于容纳所述坩埚和所述带，和

加热器，设置在所述壳体内部，用于加热容纳于所述坩埚内的淀 积材料。

15.如权利要求14所述的淀积装置，其中，所述热电偶连接至位于所 述壳体底部附近的所述带的一部分。

16.如权利要求14所述的淀积装置，进一步包括与所述热电偶的第二 端子相连的温度控制器。

17.如权利要求14所述的淀积装置，其中，所述接触部分和所述带的 其余部分由相同的材料形成。

18.如权利要求17所述的淀积装置，其中，所述相同的材料为不锈钢。

19.如权利要求14所述的淀积装置，其中，所述接触部分从所述带的 上部弯曲。

20.如权利要求14所述的淀积装置，其中，所述加热器环绕所述坩埚。

21.如权利要求14所述的淀积装置，其中，所述热电偶与所述加热器 绝缘。