[发明专利]等离子体显示面板无效

专利信息
申请号: 200810176344.2 申请日: 2008-11-20
公开(公告)号: CN101441967A 公开(公告)日: 2009-05-27
发明(设计)人: 南文浩;朴捘镛 申请(专利权)人: 三星SDI株式会社
主分类号: H01J17/49 分类号: H01J17/49
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 代理人: 郭鸿禧;邱 玲
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 等离子体 显示 面板
【权利要求书】:

1.一种等离子体显示面板,包括:

彼此面对的第一基板和第二基板;

多个障肋,在第二基板上并位于所述第一基板和所述第二基板之间,沿 着障肋的阶梯表面形成多个主放电空间和多个辅助放电空间,每个障肋包括 基体单元和从所述基体单元突出的突出单元,与所述突出单元的宽度相比, 所述基体单元具有相对大的宽度;

成对的扫描电极和维持电极,在所述第一基板上延伸,扫描电极位于与 辅助放电空间叠置的位置;

多个寻址电极,用于与扫描电极一起产生寻址放电;

多个磷光体层,分别处于主放电空间中;

放电气体,处于主放电空间和辅助放电空间中。

2.如权利要求1所述的等离子体显示面板,其中,主放电空间和辅助放 电空间是相邻的且邻接的。

3.如权利要求1所述的等离子体显示面板,其中,障肋面对扫描电极, 在障肋和扫描电极之间形成辅助放电空间。

4.如权利要求1所述的等离子体显示面板,还包括位于障肋的阶梯表面 上的电子发射材料层。

5.如权利要求4所述的等离子体显示面板,其中,所述电子发射材料层 延伸到主放电空间。

6.如权利要求5所述的等离子体显示面板,其中,所述电子发射材料层 在主放电空间和辅助放电空间之间连续延伸。

7.如权利要求5所述的等离子体显示面板,其中,磷光体层处于所述电 子发射材料层的位于主放电空间中的部分上。

8.一种等离子体显示面板,包括:

彼此面对的第一基板和第二基板;

多个障肋,在第二基板上并位于所述第一基板和所述第二基板之间,多 个障肋形成多个主放电空间;

成对的扫描电极和维持电极,在所述第一基板上延伸;

介电层,覆盖成对的扫描电极和维持电极,并具有多个凹槽,多个凹槽 在与扫描电极叠置的位置处形成多个辅助放电空间;

多个寻址电极,用于与扫描电极一起产生寻址放电;

多个磷光体层,分别处于主放电空间中;

放电气体,处于主放电空间和辅助放电空间中,

其中,障肋面对扫描电极,辅助放电空间形成在障肋和扫描电极之间。

9.如权利要求8所述的等离子体显示面板,其中,主放电空间和辅助放 电空间是相邻的且彼此相连。

10.如权利要求8所述的等离子体显示面板,还包括位于障肋的顶表面 上的电子发射材料层。

11.如权利要求10所述的等离子体显示面板,其中,所述电子发射材料 层延伸到主放电空间。

12.如权利要求11所述的等离子体显示面板,其中,所述电子发射材料 层在主放电空间和辅助放电空间之间连续延伸。

13.如权利要求11所述的等离子体显示面板,其中,磷光体层处于所述 电子发射材料层的位于主放电空间中的部分上。

14.一种等离子体显示面板,包括:

彼此面对的第一基板和第二基板;

多个障肋,在第二基板上并位于所述第一基板和所述第二基板之间,每 个障肋包括形成多个室的基体单元和从所述基体单元的一部分突出的突出单 元,其中,所述突出单元的宽度比所述基体单元的宽度窄;

成对的扫描电极和维持电极,交替地布置在所述第一基板上;

多个磷光体层,分别处于所述多个室的除了所述基体单元的顶表面和所 述突出单元的与所述基体单元的所述顶表面邻接的侧壁之外的部分上;

放电气体,处于所述多个室中,

其中,扫描电极与基体单元的至少一部分叠置。

15.如权利要求14所述的等离子体显示面板,其中,突出单元从基体单 元的远离所述多个室中相邻室的中心的一部分突出。

16.一种等离子体显示面板,包括:

彼此面对的第一基板和第二基板;

多个障肋,在第二基板上并位于所述第一基板和所述第二基板之间,并 形成多个室;

成对的扫描电极和维持电极,在所述第一基板上延伸;

介电层,覆盖所述成对的扫描电极和维持电极,并在与扫描电极叠置的 位置处具有凹槽;

多个磷光体层,分别位于所述多个室的至少一部分上;

放电气体,填充在所述多个室中,

其中,障肋面对扫描电极,所述多个室的一小部分空间形成在障肋和扫 描电极之间。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星SDI株式会社,未经三星SDI株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810176344.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top