[发明专利]一种显影液喷头

说明书

技术领域

本发明涉及半导体制造领域，尤其涉及一种显影液喷头。

背景技术

光阻覆盖显影机需要显影液来实现显影，随着半导体技术的发展，对显影能力的要求越来越高，因此如何将显影液均匀涂布在晶片上成为相关领域的技术人员的不断追求，从而也就推动了显影液喷头的不断革新。从最初的H型喷头到后来的E2型喷头、E3型喷头、LD型喷头，分析不难发现，随着喷头的不断发展，喷头喷到晶片上的显影液覆盖越来越均匀，这样就促使显影的效果逐渐提高。

图1a所示是现有的E2/E3/LD型显影液喷头的仰视图，其中的黑点代笔喷孔，喷孔排成直线。图1b是现有的E2/E3/LD型显影液喷头的俯视图，其中A1(A11)和C1(C11)是显影液入端，B1(B11)是显影液出端。图1c和图1d分别表示现有的E2/E3/LD型显影液喷头的左视图和前视图。

现有的E2/E3/LD型显影液喷头都是长条型的结构，为了让显影液覆盖到整个晶片，喷头在喷显影液的过程中，E2/E3型显影液喷头通过晶片1旋转而喷头2不动来进行喷液，如图2所示，图中箭头方向是晶片1的旋转方向。而LD型显影液喷头则是通过喷头2边喷边水平移动来进行喷液，如图3所示，图中箭头方向是喷头2的移动方向。这样在一片晶片的不同区域显影液停留的时间会有差异，且易发生局部喷涂不足或喷涂过量的问题，最终影响到显影的效果。

发明内容

本发明的目的在于克服现有显影液喷头的上述问题，提供一种可使喷涂的显影液覆盖更均匀的显影液喷头。

本发明所述的一种显影液喷头，其特征在于含有中空的面板；面板的一侧具有多个穿透面板一侧的面板壁的孔，上述孔排列成平面状；面板的另一侧设置有显影液的入端管道和出端管道。

上述面板是圆形的。

上述面板的面积小于等于晶片的面积。

上述孔的分布形式是由中心向边缘呈辐射状分布。

上述出端管道的底部高于各入端管道的底部。

上述出端管道设置于上述面板的中心位置。

上述入端管道设置于上述面板上靠近边缘的位置，且以上述出端管道为中心对称设置。

上述入端管道是4个。

上述4个管道形成正方形，且该正方形的对角线的交点正好位于上述出端管道处。

采用本发明的显影液喷头，显影液在晶片上的停留时间没有差异，且喷涂更均匀，还可解决现有的E2/E3/LD型显影液喷头的局部喷涂不足或喷涂过量的问题。

附图说明

图1a表示现有的E2/E3/LD型显影液喷头的仰视图；

图1b表示现有的E2/E3/LD型显影液喷头的俯视图；

图1c表示现有的E2/E3/LD型显影液喷头的左视图；

图1d表示现有的E2/E3/LD型显影液喷头的前视图；

图2表示现有的E2/E3型显影液喷头动作的俯视图；

图3表示现有的LD型显影液喷头动作的俯视图；

图4a表示本发明所述的显影液喷头的仰视图；

图4b表示本发明所述的显影液喷头的俯视图；

图4c表示本发明所述的显影液喷头的左视图；

图5表示本发明所述的显影液喷头动作的俯视图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例，对本发明所述的一种显影液喷头作进一步的详细说明。

图4a-4c是本发明所述的显影液喷头的一个实施例的各视图。该显影液喷头直接覆盖在晶片上进行喷涂显影液。

图4a表示本发明的显影液喷头的仰视图，该视图表示的是本发明的Z型显影液喷头的底部，在该实施例中，喷头面板3为中空，喷头面板3呈圆形，以与将被喷涂显影液的晶片的形状相匹配，既不浪费材料又能良好地覆盖到晶片，且喷头面板3的面积一般小于等于晶片的面积。在喷头面板3的平面底部具有多个穿透面板一侧的面板壁的喷孔4，在图中用黑点表示，各喷孔4由中心向边缘呈辐射状分布。

图4b是本发明的显影液喷头的俯视图，由图可见在面板3的顶部具有多个管道，在该实施例中共有五个管道，具体为四个入端管道5、6、7、8和一个出端管道9，且出端管道9位于圆形面板3的中心。而四个入端管道5、6、7、8对称排列于该出端管道9周围，且四个入端管道5、6、7、8正好形成正方形，该正方形的对角线交点即在出端管道9的位置处。

图4c是本发明的显影液喷头的左视图，由图可见出端管道9的底部高于各入端管道5、6、7、8的底部，借此来实现显影液的回流。

在本发明的另一实施例中，喷头面板3底部的喷孔4可以以其他方式均匀分布，也可以达到与上述实施例相同的技术效果。