[发明专利]抛光衬垫、制造抛光衬垫的方法以及抛光系统和抛光方法

权利要求书

1.一种抛光衬垫，包括：

一抛光层，其具有抛光面和底面；

第一组沟槽，其形成于所述抛光层的前表面；一凹槽，其形成于所述抛光层的底面上，且其中在所述抛光面上对应于所述底面中凹槽的区域没有沟槽并且是不透明的；以及

具有开口的背衬层，其中所述开口与所述凹槽相对齐。

2.如权利要求1所述的抛光衬垫，其中在所述抛光面上对应于所述底面中凹槽的区域大体上是平的。

3.一种抛光系统，包括：

一托架，用于固定衬底；

一抛光衬垫，其被支撑于机床工作台上，该抛光衬垫包括一抛光层和背衬层，该抛光层具有一用于抛光的前表面和一底面、形成于所述抛光层的前表面上的第一组沟槽、及形成于所述抛光层的底面上的凹槽，且其中在所述抛光面上对应于所述底面中凹槽的区域没有沟槽并且是不透明的，所述背衬层具有开口，其中所述开口与所述凹槽相对齐；及

一涡流监控系统，其至少具有线圈和磁芯的其中之一，且所述线圈和磁芯的其中之一至少部分地延伸到所述抛光层的底面中的凹槽内，以监控由所述托架固定的所述衬底上的金属层。

4.一种抛光方法，包括：

使衬底与一抛光衬垫的抛光层的前表面相接触，所述抛光层具有形成于该抛光层的前表面的第一组沟槽、及形成于该抛光层的底面中的一凹槽，而且其中所述抛光面上对应于所述底面中凹槽的区域没有沟槽并且是不透明的，并且所述抛光衬垫进一步包括具有开口的背衬层，其中所述开口与所述凹槽相对齐；

将抛光液提供到所述抛光层的前表面；及

使得所述衬底和所述前表面之间产生相对运动。