[发明专利]分析装置有效
申请号: | 200810099052.3 | 申请日: | 2008-05-15 |
公开(公告)号: | CN101308156B | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
发明(设计)人: | 足立作一郎 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立高新技术 |
主分类号: | G01N35/00 | 分类号: | G01N35/00;G01N33/50;G01N21/00 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 张敬强 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 分析 装置 | ||
1.一种分析装置,其特征在于,
具有:容纳试剂的容器;
对上述容器至少照射400nm以上的第一波长和不足400nm的第二波长的 光量不同的光的光源;
对通过了上述容器后的光进行分光的分光部;以及
从上述分光部接收被分光后的光且检测光的中心波长各不相同的多个受 光元件,
配置在上述分光部和至少一个上述受光元件之间的狭缝,
上述狭缝具有开口部,该开口部使来自上述分光部的光在以所述第一波长 作为中心波长的光作为检测光的上述受光元件中的照入角度小于来自上述分 光部的光在以所述第二波长作为中心波长的光作为检测光的上述受光元件中 的照入角度。
2.一种分析装置,其特征在于,
具有:至少照射400nm以上的第一波长和不足400nm的第二波长的光量 不同的光的光源;
对上述光源所照射的光进行分光的分光部;
容纳试样并被照射由上述分光部分光后的分光光的至少一个容器;
接收通过了上述容器的上述各分光光且检测光的中心波长各不相同的多 个受光元件;以及
配置在上述容器和至少一个上述受光元件之间的狭缝,
上述狭缝具有开口部,该开口部使来自上述分光部的光在以所述第一波长 作为中心波长的光作为检测光的上述受光元件中的照入角度小于来自上述分 光部的光在以所述第二波长作为中心波长的光作为检测光的上述受光元件中 的照入角度。
3.根据权利要求1或2所述的分析装置,其特征在于:
上述狭缝配置在上述分光部和接收上述第一波长的光的至少一个上述受光元 件之间。
4.根据权利要求1或2所述的分析装置,其特征在于:
上述光源是卤素光源。
5.根据权利要求1或2所述的分析装置,其特征在于:
上述分光部是衍射光栅。
6.根据权利要求1或2所述的分析装置,其特征在于:
上述狭缝与上述受光元件相对地配置。
7.根据权利要求2所述的分析装置,其特征在于:
还具有配置在上述分光部和上述容器之间的狭缝阵列,以及从上述狭缝阵 列向上述容器传送上述分光光的光纤。
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