[发明专利]间隔件、使用该间隔件的图像显示设备及其制造方法无效
| 申请号: | 200810095474.3 | 申请日: | 2008-04-23 |
| 公开(公告)号: | CN101295617A | 公开(公告)日: | 2008-10-29 |
| 发明(设计)人: | 黑田和生;清水康志;大栗宣明 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
| 主分类号: | H01J29/87 | 分类号: | H01J29/87;H01J31/12;H01J9/24;H01J9/00 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 康建忠 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 间隔 使用 图像 显示 设备 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及用于平面图像显示设备的间隔件(spacer)和该间隔件的制造方法,以及使用该间隔件的图像显示设备和该图像显示设备的制造方法。
背景技术
作为可减小厚度和重量的图像显示设备,提出了使用表面导电电子发射器件的平面图像显示设备。使用这种电子发射器件的图像显示设备通过设置设有电子发射器件的后板和由于电子照射而发光的发光构件使其彼此相对,并在外围用框架材料密封它们而形成真空盒。在这种图像显示设备中,为了防止基板由于真空盒的内部和外部之间的气压差而变形和损伤,称作间隔件的抗气压结构放置在基板之间。
间隔件通常以矩形片形状形成,且间隔件被设置成使其端部与两个基板都接触,使得其表面与基板的法线平行。
但是,当间隔件附近的器件被激活时,间隔件会由于反射电子照射到间隔件而被充电。在日本专利申请公开(JP-A)No.2005-235751(对应于欧洲专利申请公开No.EP A2 1557863)和JP-A No.2000-192017(对应于欧洲专利申请公开No.EP A1 0969491)中,公开了在间隔件表面上设有电子去除膜以去除这种充电的结构。
但是,已经发现一种现象,即当设有传统间隔件的图像显示设备已被长时间驱动时,间隔件附近的发光点的位置微量移动。在上述JP-A No.2005-235751和JP-A No.2000-192017中公开的图像显示设备中,虽然偏移量非常短,但是期望为更高质量的画片进一步减小偏移量。
发明内容
本发明的目的是提供一种即使当图像显示设备已被长时间驱动时,充电特性的变化也较小的间隔件,并由此提供一种图像显示设备,其能在长时间驱动期间减少发光点的移动,从而避免对图像显示的不利效果。
本发明提供一种用于图像显示设备的间隔件,包含基材和膜构造,在所述膜构造中,具有银粒子分散在氮氧化铝中的结构的第一膜和含有钨、锗和氮的第二膜以这一顺序层叠在基材上。
本发明还提供一种具有上述间隔件的图像显示设备。
附图说明
图1是根据本发明的间隔件的表面附近的部分剖视图;
图2是示意性示出根据本发明的图像显示设备例子的显示板结构的透视图;
图3A至3E是示出根据本发明实施例的后板的制造步骤的平面示意图;
图4A和4B是示出用于根据本发明的图像显示设备的前板的荧光膜的平面示意图;
图5A和5B是示出用于本发明实施例的间隔件的形状的视图;
图6是示出由于最接近间隔件的器件的显示等级(gradation)和连续驱动而导致的射束位置的移动的说明图;
图7是示出由于最接近间隔件的器件的显示等级和连续驱动而导致的射束位置的移动的说明图;
图8是示出由于最接近间隔件的器件的显示等级和连续驱动而导致的射束位置的移动的说明图;
图9是示出由于最接近间隔件的器件的显示等级和连续驱动而导致的射束位置的移动的说明图;
图10A是示意性示出根据本发明的间隔件的例子的透视图;以及
图1B是根据本发明的间隔件的例子的剖视图。
具体实施方式
本发明的第一方面可提供一种用于图像显示的间隔件,包含:基材;和膜构造,其中,具有银粒子分散在氮氧化铝中的结构的第一膜和含有钨、锗和氮的第二膜以这一顺序层叠在基材上。
本发明的第二方面可提供一种图像显示设备,包含:气密容器,具有在其上设置有电子源的第一基板和在其上设置有图像显示构件的第二基板,所述图像显示构件面对所述电子源;以及设置在第一基板和第二基板之间的间隔件,其中间隔件具有基材和膜构造,在所述膜构造中,具有银粒子分散在氮氧化铝中的结构的第一膜和含有钨、锗和氮的第二膜以这一顺序层叠在基材上。
本发明的第三方面可提供一种制造用于图像显示设备的间隔件的方法,包括如下步骤:制备基材;在基材上形成具有银粒子分散在氮氧化铝中的结构的第一膜;以及在第一膜上形成包含钨、锗和氮的第二膜。
本发明的第四方面可提供一种制造图像显示设备的方法,该图像显示设备包括气密容器,该气密容器具有在其上设有电子源的第一基板和在其上设有图像显示构件的第二基板,该图像显示构件面对该电子源,以及设置在第一基板和第二基板之间的间隔件,该方法包括如下步骤:制备基材;在基材上形成具有银粒子分散在氮氧化铝中的结构的第一膜;以及在第一膜上层叠形成含有钨、锗和氮的第二膜。
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