[发明专利]基底传送装置和用在该基底传送装置中的基底引导单元

说明书

相关申请的交叉参考 

[0001]本申请要求于2007年5月14日提交的第2007-46602号韩国专利申请的优先权，并在此将该韩国专利申请的全部内容引入作为参考。 

技术领域

本发明涉及在制造基底时用到的装置，更具体地说，涉及基底传送装置和用在该基底传送装置中的引导单元。

背景技术

最近，具有多种功能和更高数据处理速度的数据处理装置迅速发展起来。每个这些数据处理装置包括被设置成用于显示运算信息的显示器。虽然通常将阴极射线管(CRT)用作显示器，但随着最近半导体技术的迅猛发展，平板显示器的使用显著增加。平板显示器具有轻盈和占据空间小的优点。虽然存在很多种平板显示器，但由于液晶显示器(LCD)具有低能耗、体积小和驱动电压低的优点，因此LCD已经被广泛使用。

要进行多项处理来制造这些平板显示器。用于平板显示器的基底由传送装置传送到在其中进行各项处理的室中。在处理室中，在处理期间传送基底。图1描述了传统的传送装置900，图2是图1中示出的基底和侧辊的放大立体图。参照图1和图2，传送单元900包括被布置成彼此平行的可旋转的轴920和设置在轴920上从而随轴920一起旋转的传送辊940。在各轴920之间安装有用于支撑基底S侧面的侧辊960，从而引导基底S的线性传送。轴920和传送辊940的旋转力能使基底S作线性运动，并且基底S的线性运动能使侧辊960旋转。

然而，除非精确设置侧辊960的位置，否则基底S的侧部容易与侧辊960碰撞而损坏基底S。而且，如果运动着的基底S上下摇动，那么在基底S和侧辊960之间沿侧辊960的长度方向容易产生摩擦力，因而损坏基底S。

发明内容

本发明的示例性实施例涉及一种基底传送装置。在一示例性实施例中，所述基底传送装置可以包括：多个成排布置的可旋转的轴；与所述轴固定结合从而随所述轴一起旋转的传送辊；以及引导单元，它被设置成用于引导由所述传送辊传送的基底的线性运动，所述引导单元包括外环，所述外环具有与基底底部边缘接触的外周面和从所述外周面向外突出并用于与基底侧部接触的引导件，其中所述引导单元还包括：内环，它具有让所述轴插入其中的通孔，所述内环与所述轴结合从而随所述轴一起旋转，并且所述内环插入到在所述外环的中心处形成的通孔中；以及轴承，它们布置在所述内环和所述外环之间，从而允许所述内环和所述外环独立地旋转。

在另一示例性实施例中，所述基底传送装置可以包括：多个成排布置的可旋转的轴；多个传送辊，所述传送辊与所述轴固定结合从而随所述轴一起旋转；以及引导单元，它被设置成用于引导由所述传送辊传送的基底的线性运动，并且与所述轴结合，其中所述引导单元包括：内环，它具有让所述轴插入其中的通孔，并且被安装成通过所述轴的旋转而随所述轴一起旋转；外环，它形成有让所述内环插入其中的通孔，所述外环包括与基底底部边缘接触的外周面和从所述外周面向外突出并支撑基底侧部的引导件；以及轴承，它们设置在所述内环和所述外环之间，从而允许所述内环和所述外环独立地旋转。

本发明的示例性实施例涉及一种引导单元，所述引导单元被设置在基底传送装置上从而引导基底的线性运动。在一示例性实施例中，所述引导单元可以包括：外环，它具有形成有通孔的中心，并且包括从其外周面向外延伸的引导件；内环，它插入所述外环的通孔中，所述内环具有形成有通孔的中心；以及设置在所述外环和所述内环之间的多个轴承。

附图说明

图1是传统基底传送装置的立体图。

图2是图1中示出的基底和侧辊的放大立体图。

图3描述了具有本发明基底传送装置的基底处理设备的例子。

图4是本发明示例性实施例的基底传送装置的立体图。

图5是已拆开的图4中所示引导单元的截面图。

图6是已组装的图4中所示引导单元的截面图。

图7是与轴固定结合的图4中所示引导单元的立体图。

图8是图5中示出的楔子的立体图。

图9是图5中示出的帽盖的立体图。

图10和图11分别描述了在楔子完全插入内环的子体中之前的状态和楔子完全插入内环的子体中的状态。

图12描述了本发明引导单元以不同于图4中所示方向的方向与轴结合的状态。

图13和图14分别描述了修改的本发明引导单元的例子。

图15和图16描述了修改的图4中所示基底传送装置的例子。

具体实施方式