[发明专利]有机卤化合物等的有害物质的处理装置

权利要求书

1.一种有机卤化合物的有害物质的处理装置，该有机卤化合物的有害物质的处理装置具有筐体、微波照射机构、搅拌机构、过滤器过滤机构，

所述筐体导入附着、吸附着有机卤化合物的有害物质的固体；

所述微波照射机构将微波向导入到该筐体内的、附着、吸附着有害物质的固体照射；

所述搅拌机构具有对导入到筐体内的、附着、吸附着有害物质的固体进行搅拌的旋转叶片，

所述过滤器过滤机构对在筐体内产生的排气进行过滤，并向外部排出，

其特征在于，在上下方向多级配设上述搅拌机构的旋转叶片。

2.如权利要求1所述的有机卤化合物的有害物质的处理装置，其特征在于，将配设在上级的旋转叶片的旋转外周径设定成小于配设在下级的旋转叶片的旋转外周径。

3.如权利要求1或2所述的有机卤化合物的有害物质的处理装置，其特征在于，由板状部件构成旋转叶片，将该板状部件以板状部件的下端位于旋转叶片的旋转方向的前方侧的方式，倾斜地安装在相对于旋转轴，在放射方向延伸的旋转支轴上，同时，使配设在上级的旋转叶片位于配设在下级的旋转叶片的倾斜方向的大致延长线上。

4.如权利要求1或2所述的有机卤化合物的有害物质的处理装置，其特征在于，旋转叶片分别由在上部形成有栉齿，在下部形成有刮刀的板状部件构成，并且，是隔着照射栉齿的间隙的尺寸的微波的波长的1/4的整数倍，切掉该微波的波长的1/4的±10～20％程度而形成。