[发明专利]显影喷嘴结构及喷涂显影液的方法

说明书

技术领域

本发明是关于一种显影喷嘴结构及喷涂显影液的方法，特别是一种运用于半导体元件制作的显影喷嘴结构及喷涂显影液的方法。

背景技术

一般主动式矩阵薄膜晶体管型液晶显示器(Active matrix thin filmtransistor liquid crystal display)即是利用薄膜晶体管或类似的主动元件(Activeelement)产生电场以使液晶(LC)转向，进而控制光线的进行方向。该类型薄膜晶体管液晶显示器的制作大约可归纳成三段主要制造工艺：前段的晶体管阵列(Array)制造工艺、中段的液晶胞(Cell)制造工艺及后段的模块构装(ModuleAssembly)制造工艺，其中晶体管阵列(Array)制造工艺是在其中一基板(如玻璃基板)表面形成数个呈阵列(Array)排列的薄膜晶体管(Thin film transistor，TFT)。若依自动化制造的顺序作进一步细分，该晶体管阵列(Array)制造工艺至少还包括基板成膜、光阻涂布(Resist Coating)、曝光(Exposure)、显影(Development)及刻蚀(Etch)等工艺，其中曝光及显影两制造工艺的工作区域使用黄色光线，因此该曝光及显影两制造工艺一般可泛称为“黄光段”或其中的一部份。曝光工艺是利用紫外光经由掩膜(Reticle)在基板的光阻层上形成遮蔽印记；再经由该显影工艺，即将显影液均匀喷涂于基板的光阻层上，利用显影液去除被掩膜遮蔽或未被掩膜遮蔽的部份光阻层(依正/负光阻剂的交连特性决定)以将掩膜的图案显现在基板的光阻层上。

如图1A所示的一种已知显影液喷嘴(Developer Nozzle)10使用于对基板180执行晶体管阵列制造工艺的黄光段的显影工艺。当显影液100经由喷嘴10上方的各注入通道14注入喷嘴腔体12内时，由于喷嘴腔体12内部上方呈一水平状结构，该显影液100注入时所产生的许多小气泡102会逐渐上升，直至积存并散布于喷嘴腔体12内部上方。该种已知显影液喷嘴10的设计，不易将气泡102集中从喷嘴腔体12的各排气孔(Air Vent)16下方顺利排出，而是需要等到如图1B所示的状态，即当在喷嘴腔体12内部已累积成大型或大量气泡102时，才有可能从排气孔16排出。可是一旦在喷嘴腔体12内累积大量气泡102，这些气泡102更容易随着显影液100喷洒至基板180(如图1C所示)上；由于此等气泡102可能导致显影不完全而影响后续的刻蚀工艺。亦即，如果喷嘴10允许过多气泡102随着显影液100被带到基板180上，会导致显影不良，严重影响工艺成品率，需要事后重工导致花费多余的时间与成本。虽然已知显影液喷嘴10可通过定期的机台保养来排除气泡，但因为多是人工方式进行，当有多台机台需要保养时，既花费时间，又费人力成本，工艺效率不佳。

发明内容

为解决前述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种显影喷嘴结构及喷涂显影液的方法，能在显影工艺中减少随显影液喷洒至面板的气泡数量，并且能即时且主动地减少因气泡所产生的工艺损失而提升工艺效率，无需如已知喷嘴结构要以人工方式定期执行机台保养来排除气泡。

为达成上述发明目的，本发明是揭示一种显影喷嘴结构，包括：喷嘴腔体、注入管、喷涂管及闸门装置。该喷嘴腔体内被闸门装置分隔成上下两个部分，即一第一室及位于第一室的下的一第二室。该注入管位于喷嘴腔体上方，注入管的一端经由所述第一室延伸进入所述第二室，用于提供显影液注入该第二室内。该喷涂管位于该第二室下方以连通该第二室。该闸门装置，设置于该第一室与该第二室之间，当该闸门装置开启时，显影液中的气泡会经由闸门装置进入并集中于该第一室内，但在该闸门装置关闭时，会将该第一室的气泡与第二室的显影液隔离，且第二室的显影液经由该喷涂管向外喷涂。而上述喷嘴结构可配合连通第一室的气泡排放管与辅注入管，利用辅注入管供应显影液注入第一室，使第一室的气泡经由气泡排放管向外排放。通过气泡被集中带到喷嘴腔体上半部的第一室内并与第二室隔离，可确保显影液注入第二室时第一室的气泡不会乱窜而被带到第二室，而是经由气泡排放管顺利排出，故能减少气泡随着显影液被带出至面板。

此外，本发明亦揭示一种喷涂显影液的方法，运用于一显影喷嘴，且该显影喷嘴具有一第一室、位于其下的一第二室、位于该第二室下方且与该第二室连通的一喷涂管以及一闸门装置设置于第一室与第二室之间，该方法包括下列步骤：

使显影液充满该第一室与该第二室且控制该闸门装置为开启状态，使该第二室内显影液的气泡进入并集中于该第一室；

当感应到一面板时，关闭该闸门装置；