[发明专利]用于平板显示器薄膜沉积的掩模框架组件和使用该组件的沉积设备

说明书

相关申请的交叉参考

本申请要求2007年4月5日提交的韩国专利申请No.2007-33733的权益，该申请的公开内容通过引用被全部并入此文。

技术领域

本发明涉及一种用于平板显示器的薄膜沉积的掩模框架组件及使用该掩模框架组件的沉积设备，更具体地，涉及一种用于平板显示器的薄膜沉积的掩模框架组件，其采用了双轻质框架结构，以易于搬运和运输此掩模框架组件，并涉及一种使用该组件的沉积设备。

背景技术

最近，对例如液晶显示器(LCD)、有机发光显示器(OLED)等等的轻质且紧凑的平板显示器(FPD)的适应优点以及大尺寸显示器不断增加的分辨率的研究已经广泛进行。在平板显示器中，有机发光显示器是能够解决传统液晶显示器的问题的下一代平板显示器之一，这是由于有机发光显示器具有快速响应时间和色彩表现能力，而不需要单独的光源和滤色器。

通常，有机发光显示器包括阳极与阴极之间的有机发射层。空穴和电子从阳极和阴极移出以产生激发态的激发子，激发子重新组合以发光。

在此，构成有机发光显示器的薄膜的精细图样的形成方法包括使用图样掩模的光刻方法或沉积方法。由于有机发射层对湿度敏感，因而使用传统的光刻方法难以形成有机发射层。

因此，在光刻胶离层处理和蚀刻处理过程中，暴露于湿气的光刻方法不适于沉积有机发射层的处理。

为了解决该问题，使用具有特定图样的图样掩模在真空中沉积有机发射材料的方法广泛用于形成有机发射层。

图1是用于薄膜沉积的传统掩模框架组件的俯视图。

图2是图1中的用于薄膜沉积的掩模框架组件的沿线A-A′所取的横截面图。

参见图1和2，用于平板显示器的薄膜沉积的传统的掩模框架组件40包括图样掩模20，图样掩模20设置有具有多个开口的图样部分21，和用于支撑图样掩模20的框架10。框架10与图样掩模20的下边缘部连接以支撑图样掩模20。

通常，当用于薄膜沉积的掩模框架组件40在制造有机发光显示器的处理过程中用于沉积有机发射层的处理时，图样掩模20具有过小的厚度，并且，图样掩模20的图样部分21的缝隙具有过小的宽度。因此，图样掩模20可能由于下垂而变形或弯曲，从而难以精确地沉积薄膜。

特别地，该问题在用于批量生产的图样掩模20的大范围中更为严重。为了解决该问题，框架10可以用于支撑图样掩模20并保持图样掩模20的形状。

此时，框架10可以由例如SUS(不锈钢)钢或因瓦(Invar)合金的强材料形成，以提供具有均匀质量的图样掩模20。

然而，当使用SUS钢或因瓦合金时，用于薄膜沉积的掩模框架组件的重量增加，因此难以搬运掩模框架组件，并增大了用于运输在沉积设备的腔中设置的用于薄膜沉积的掩模框架组件40的设备的重量载荷，从而降低了生产率。

发明内容

本发明提供一种用于薄膜沉积的掩模框架组件，其采用双框架结构，以减少其重量，并提供一种使用该掩模框架组件的沉积设备。

根据本发明的一个方面，一种用于平板显示器的薄膜沉积掩模框架组件包括：图样掩模，其设置有包括多个开口的图样部分；第一框架，其与所述图样掩模的下边缘部分连接以支撑所述图样掩模；和第二框架，其沿水平或竖直方向与所述第一框架连接。

根据本发明的另一方面，一种沉积设备包括：沉积腔；用于薄膜沉积的掩模框架组件，其设置在所述沉积腔中，并包括设置有具有多个开口的图样部分的图样掩模，与所述图样掩模的下边缘部分连接以支撑所述图样掩模的第一框架，和沿水平或竖直方向与所述第一框架连接的第二框架；和设置在所述图样掩模下的沉积源。

所述用于平板显示器的薄膜沉积的掩模框架组件可包括具有多个图样部分的图样掩模，和用于支撑所述图样掩模的第一框架。所述第一框架可与所述图样掩模的下边缘部分连接以支撑所述图样掩模。另外，所述第二框架可沿水平或竖直方向与所述第一框架连接。

此时，所述第一框架可由例如因瓦或SUS材料的强材料形成。沿水平或竖直方向对应于所述第一框架的所述第二框架可由比质量(specific mass)小于因瓦或SUS材料的质量的金属和合金之一形成，从而实现用于薄膜沉积的轻质掩模框架组件。

附图说明

本发明的以上及其他特征将通过以下结合附图的其特定示例性实施例进行描述，其中：

图1是用于薄膜沉积的传统掩模框架的俯视图；

图2是图1中的用于薄膜沉积的掩模框架组件的沿线A-A′所取的横截面图；