[发明专利]一种低能电子加速器束下装置反应器

说明书

技术领域

本发明涉及辐照加工领域，具体地说是一种低能电子加速器束下装置反应器。

背景技术

使用低能电子加速器实现乳液的辐射交联过程中，使用的束下装置是一种不锈钢反应器。被辐照流体从循环罐内由一组计量泵送入到溢流辐照槽，然后被辐照流体溢流至回收槽，由另一组计量泵将被辐照流体吸出至循环罐，实现循环辐照的过程。

由于计量泵产生的流体冲击使得被辐照流体的辐照液面出现上下波动，乳液接受电子束的均衡性不好，辐照效果差，现有技术中对此没有解决方案。

发明内容

针对现有技术中存在的缺陷，本发明的目的是提供一种低能电子加速器束下装置反应器，可以有效地避免被辐照流体的辐照液面上下波动和被辐照流体滞留，改善被辐照流体接受电子束的均衡性，避免被辐照流体因局部接受剂量过大而焦化。

为达到以上目的，本发明采取的技术方案是：

一种低能电子加速器束下装置反应器，包括内部设有溢流辐照槽1的回收槽2，回收槽2设有回收槽支架3，回收槽2底部设有出液管5，回收槽2底部设有供进液管4穿过的通孔，溢流辐照槽1底部设有进液管4，其特征在于：在溢流辐照槽1内设有通过支架7固定在进液管4管口正上方的液面稳定板6，液面稳定板6上设有过液孔8。

在上述技术方案的基础上，所说的液面稳定板6为圆盘形，液面稳定板6的直径略大于进液管4的管径，所说的支架7的数量为四个，支架7均匀分布在液面稳定板6四周，液面稳定板6和支架7通过螺栓、螺母9连接，液面稳定板6上设有与螺栓适配的螺栓孔10，所说的过液孔8至少为6个直孔，所说的过液孔8以液面稳定板6的中心为圆点均匀分布。

在上述技术方案的基础上，过液孔8的数量为7个，其中6个过液孔8为一组以液面稳定板6的中心为圆点均匀分布，液面稳定板6中心设有1个过液孔8。

在上述技术方案的基础上，过液孔8的数量为12个，每6个过液孔8为一组分成两组以液面稳定板6的中心为圆点均匀分布。

在上述技术方案的基础上，过液孔8数量为13个，其中12个过液孔8按6个一组分成两组以液面稳定板6的中心为圆点均匀分布，液面稳定板6中心设有1个过液孔8。

在上述技术方案的基础上，所说的两组过液孔8之间以液面稳定板6中心为圆点交错30°排列。

本发明具有以下优点：

1.有效地避免被辐照流体的辐照液面上下波动和被辐照流体滞留，改善被辐照流体接受电子束的均衡性，避免被辐照流体因局部接受剂量过大而焦化，可以获得更好的辐照效果。

2.产品结构简单，设计合理，成本低廉，效果明显。

附图说明

本发明有如下附图：

图1低能电子加速器束下装置反应器剖视示意图

图2低能电子加速器束下装置反应器俯视示意图

图3液面稳定板俯视示意图

图4低能电子加速器束下装置反应器侧视示意图

附图标记：

1为溢流辐照槽，2为回收槽，3为回收槽支架，4为进液管，5为出液管，6为液面稳定板，7为支架，8为过液孔，9为螺栓、螺母，10为螺栓孔，11为O型密封圈安装槽及密封圈。

具体实施方式

以下结合附图对本发明作进一步详细说明。