[发明专利]用来调整聚焦误差信号的光驱装置及其方法

权利要求书

1.一种能够调整聚焦误差信号的光驱装置，其特征在于，所述的装置包含有：

聚焦偏移决定单元，根据至少得到的第一聚焦偏移与第二聚焦偏移决定目标条件所对应的目标聚焦偏移；以及

调整模块，耦接于所述的聚焦偏移决定单元，用来接收所述的聚焦误差信号并用所述的目标聚焦偏移调整所述的聚焦误差信号来产生调整后的聚焦误差信号。

2.如权利要求1所述的能够调整聚焦误差信号的光驱装置，其特征在于，所述的目标条件为目标激光功率、光盘上的目标位置或是与所述的光盘上位置相关的目标切线速度。

3.如权利要求1所述的能够调整聚焦误差信号的光驱装置，其特征在于，所述的目标条件为目标激光功率，而所述的聚焦偏移决定单元在决定所述的目标聚焦偏移之前至少得到第一激光功率所对应的所述的第一聚焦偏移及第二激光功率所对应的所述的第二聚焦偏移。

4.如权利要求3所述的能够调整聚焦误差信号的光驱装置，其特征在于，所述的聚焦偏移决定单元依据所述的第一聚焦偏移、所述的第二聚焦偏移、所述的第一激光功率、所述的第二激光功率与所述的目标激光功率执行内插运算或外插运算以得到所述的目标聚焦偏移，所述的聚焦偏移决定单元依据所述的第一聚焦偏移、所述的第二聚焦偏移、所述的第一激光功率、所述的第二激光功率与所述的目标激光功率由对照表得到所述的目标聚焦偏移，或者所述的聚焦偏移决定单元依据曲线近似并通过以所述的第一聚焦偏移、所述的第二聚焦偏移、所述的第一激光功率与所述的第二激光功率为基础所形成的等式来得到所述的目标激光功率所对应的所述的目标聚焦偏移。

5.如权利要求3所述的能够调整聚焦误差信号的光驱装置，其特征在于，所述的能够调整聚焦误差信号的光驱装置另包含有：

多工器，耦接于所述的聚焦偏移决定单元与所述的调整模块；以及

聚焦偏移调校单元，耦接于所述的多工器与所述的聚焦偏移决定单元，用来分别依据所述的第一激光功率、第二激光功率产生所述的第一聚焦偏移、第二聚焦偏移；

其中，在调校模式下，所述的聚焦偏移调校单元分别调整经由所述的多工器输出至所述的调整模块的不同聚焦偏移，来产生对应于不同激光功率的各自的最佳聚焦偏移，以取得对应于所述的第一激光功率的所述的第一聚焦偏移、对应于所述的第二激光功率的所述的第二聚焦偏移；以及在正常模式下，所述的聚焦偏移决定单元依据所述的聚焦偏移调校单元所产生的所述的第一聚焦偏移、第二聚焦偏移来决定出所述的目标聚焦偏移。

6.一种用于光驱以调整聚焦误差信号的方法，所述的方法包含有：

根据至少得到的第一聚焦偏移与第二聚焦偏移决定目标条件所对应的目标聚焦偏移；以及

接收所述的聚焦误差信号并用所述的目标聚焦偏移调整所述的聚焦误差信号以产生调整后的聚焦误差信号。

7.如权利要求6所述的用于光驱以调整聚焦误差信号的方法，其特征在于，所述的目标条件为目标激光功率、光盘上的目标位置或是与所述的光盘上位置相关的目标切线速度。

8.如权利要求6所述的用于光驱以调整聚焦误差信号的方法，其特征在于，所述的目标条件为目标激光功率，以及所述的方法另包含有：

在决定所述的目标聚焦偏移之前至少得到第一激光功率所对应的所述的第一聚焦偏移与第二激光功率所对应的所述的第二聚焦偏移。

9.如权利要求8所述的用于光驱以调整聚焦误差信号的方法，其特征在于，所述决定所述的目标聚焦偏移的步骤包含有：

依据所述的第一聚焦偏移、所述的第二聚焦偏移、所述的第一激光功率、所述的第二激光功率与所述的目标激光功率执行内插运算或外插运算以得到所述的目标聚焦偏移，依据所述的第一聚焦偏移、所述的第二聚焦偏移、所述的第一激光功率、所述的第二激光功率与所述的目标激光功率由对照表得到所述的目标聚焦偏移，或者依据曲线近似并通过以所述的第一聚焦偏移、所述的第二聚焦偏移、所述的第一激光功率与所述的第二激光功率为基础所形成的等式来得到所述的目标激光功率所对应的所述的目标聚焦偏移。