[发明专利]有机EL器件的制造方法无效
申请号: | 200810081760.4 | 申请日: | 2008-03-06 |
公开(公告)号: | CN101277563A | 公开(公告)日: | 2008-10-01 |
发明(设计)人: | 荻野慎次 | 申请(专利权)人: | 富士电机控股株式会社 |
主分类号: | H05B33/10 | 分类号: | H05B33/10 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 范征 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机 el 器件 制造 方法 | ||
1.一种制造具有钝化层的有机EL器件的方法,其中在通过CVD法形成钝化层的期间,在保持气体组成比不变的情况下调节气体压力,以层叠其中内应力是压应力的层和其中内应力是拉应力的层。
2.如权利要求1所述的制造有机EL器件的方法,其特征在于,所述气体压力是25至75Pa或125至200Pa。
3.如权利要求1或2所述的制造有机EL器件的方法,其特征在于,在通过CVD法形成钝化层的期间,在保持所述气体组成比不变的情况下调节气体压力,以层叠无内应力的层。
4.如权利要求3所述的制造有机EL器件的方法,其特征在于,所述气体压力大于75Pa小于125Pa。
5.如权利要求1至4中的任一项所述的制造有机EL器件的方法,其特征在于,所述其中内应力是压应力的层、所述其中内应力是拉应力的层以及所述无内应力的层由选自氧化物、氮化物和氧氮化物中的至少一种形成。
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