[发明专利]光学薄膜的制造方法及光学薄膜有效

专利信息
申请号: 200810081447.0 申请日: 2008-02-22
公开(公告)号: CN101324679A 公开(公告)日: 2008-12-17
发明(设计)人: 下田一弘;山本刚司 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02F1/1335;C08L101/04;C09K19/04
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 朱丹
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学薄膜 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光学薄膜的制造方法,在将含有液晶性化合物的涂布液以4.5~12mL/m2涂布于行进的带状柔性支承体上后,将该涂布液干燥、固化而形成光学各向异性层,其特征是,所述涂布液含有包含由下述(i)的单体导出的重复单元的含氟代脂肪族基聚合物,并且满足下述(ii)的条件,

(i)是包含末端结构以-(CF2CF2)3F表示的第一含氟代脂肪族基单体和末端结构以-(CF2CF2)2F表示的第二含氟代脂肪族基单体的含氟代脂肪族基共聚物,

(ii)在所述涂布液中的所述含氟代脂肪族基聚合物的浓度C与该含氟代脂肪族基聚合物中的氟含量F的乘积C×F为0.05~0.12时,所述涂布液的利用最大泡压法测定的10毫秒后与1000毫秒后的表面张力比,即10毫秒后的表面张力/1000毫秒后的表面张力为1.0~1.2,其中所述含氟代脂肪族基聚合物的浓度C和所述氟含量F的单位为质量%。

2.根据权利要求1所述的光学薄膜的制造方法,其特征是,所述含氟代脂肪族基聚合物的含量相对于所述光学各向异性层为0.05~1质量%。

3.根据权利要求1或2所述的光学薄膜的制造方法,其特征是,在所述含氟代脂肪族基聚合物中,所述第一含氟代脂肪族基单体的含量相对于第一及第二含氟代脂肪族基单体的总量为20~80质量%。

4.根据权利要求1所述的光学薄膜的制造方法,其特征是,所述第一及第二含氟代脂肪族基单体的总量相对于所述含氟代脂肪族基聚合物全体为20~50质量%。

5.根据权利要求1所述的光学薄膜的制造方法,其特征是,所述第一及第二含氟代脂肪族基单体以下述(i)的单体表示,并且所述含氟代脂肪族基聚合物是包含由下述(i)的单体导出的重复单元及由下述(ii)的单体导出的重复单元的含氟代脂肪族基共聚物,

(i)以下述通式[1]表示的含氟代脂肪族基单体

(ii)聚氧化烯丙烯酸酯和/或聚氧化烯甲基丙烯酸酯

通式[1]

通式[1]中,R1表示氢原子或甲基,X表示氧原子、硫原子或-N(R2)-,m表示1以上6以下的整数,n表示2、3的整数,R2表示氢原子或碳数为1~4的烷基。

6.根据权利要求5所述的光学薄膜的制造方法,其特征是,所述含氟代脂肪族基聚合物是包含由下述(i)的单体导出的重复单元、由下述(ii)的单体导出的重复单元及由下述(iii)的单体导出的重复单元的含氟代脂肪族基共聚物,

(i)以权利要求5中所述的通式[1]表示的含氟代脂肪族基单体

(ii)聚氧化烯丙烯酸酯和/或聚氧化烯甲基丙烯酸酯

(iii)可以与所述(i)及(ii)共聚的以下述通式[2]表示的单体

通式[2]

通式[2]中,R3表示氢原子或甲基,Y表示2价的连结基团,R4表示也可以具有取代基的碳数为4以上20以下的直链、支链或环状的烷基。

7.根据权利要求1所述的光学薄膜的制造方法,其特征是,所述涂布液的干燥速度为0.4g/m2·秒~1.1g/m2·秒。

8.根据权利要求1所述的光学薄膜的制造方法,其特征是,所述涂布液是利用狭缝模涂布的。

9.根据权利要求1所述的光学薄膜的制造方法,其特征是,所述液晶化合物为碟型化合物。

10.一种光学薄膜,其特征是,利用权利要求1~9中任意一项所述的光学薄膜的制造方法制造而得。

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