[发明专利]发声装置有效
申请号: | 200810067905.5 | 申请日: | 2008-06-18 |
公开(公告)号: | CN101610442A | 公开(公告)日: | 2009-12-23 |
发明(设计)人: | 姜开利;肖林;陈卓;范守善 | 申请(专利权)人: | 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 |
主分类号: | H04R23/00 | 分类号: | H04R23/00;H04R1/02 |
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地址: | 100084北京市海淀区清华园1*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发声 装置 | ||
1.一种发声装置,其包括:
一信号输入装置;以及
一发声元件,该发声元件与所述信号输入装置的两端电连接;
其特征在于,所述发声元件至少部分设置在一支撑结构表面,该发声元件包 括至少一层碳纳米管薄膜,该碳纳米管薄膜包括多个相互平行的碳纳米管, 所述信号输入装置输入电信号给该发声元件,通过该发声元件加热周围气体 介质发出声波,所述支撑结构的材料具有绝热性能。
2.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,所述发声元件中至少部分碳纳 米管的两端分别与所述信号输入装置的两端电连接。
3.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,所述碳纳米管薄膜中的碳纳米 管并排设置,相邻两个碳纳米管之间通过范德华力紧密结合,且相邻两个碳 纳米管之间的距离小于50微米。
4.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,所述发声元件包括至少两层重 叠设置的碳纳米管薄膜,相邻两层碳纳米管薄膜之间通过范德华力紧密结 合,且相邻两层碳纳米管薄膜中的碳纳米管之间形成一夹角α,α大于等于 0度且小于等于90度。
5.如权利要求4所述的发声装置,其特征在于,所述发声元件为一网状结构, 该网状结构包括均匀分布的微孔,该微孔的孔径小于50微米。
6.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,所述发声元件的厚度为0.5纳 米~1毫米。
7.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,所述碳纳米管薄膜中的碳纳米 管为单壁碳纳米管、双壁碳纳米管及多壁碳纳米管中的一种或多种,所述单 壁碳纳米管的直径为0.5纳米~50纳米,所述双壁碳纳米管的直径为1.0纳 米~50纳米,所述多壁碳纳米管的直径为1.5纳米~50纳米。
8.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,所述发声元件直接设置并贴合 于该支撑结构的表面。
9.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,所述支撑结构的材料为金刚石、 玻璃、石英、塑料或树脂。
10.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,所述支撑结构为一V型、U 型结构或一具有狭窄开口的腔体,所述发声元件通过该支撑结构部分悬空设 置,在所述发声元件至支撑结构之间形成一拢音空间。
11.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,所述支撑结构为一立体结构, 所述发声元件环绕所述支撑结构设置。
12.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,所述发声装置进一步包括至少 两电极,该至少两电极间隔设置于所述发声元件表面且与所述发声元件电连 接。
13.如权利要求12所述的发声装置,其特征在于,所述发声元件中的部分碳纳 米管的两端分别与所述至少两电极电连接。
14.如权利要求12所述的发声装置,其特征在于,所述至少两电极进一步通过 导线与所述信号输入装置的两端电连接。
15.如权利要求14所述的发声装置,其特征在于,所述发声装置包括多个电极, 该多个电极间隔设置且均与所述发声元件电连接,且该多个电极中任意两个 相邻的电极分别与所述信号输入装置的两端电连接。
16.如权利要求15所述的发声装置,其特征在于,所述电极的材料为金属、导 电胶、金属性碳纳米管或铟锡氧化物。
17.如权利要求12所述的发声装置,其特征在于,所述发声装置进一步包括一 导电粘结层设置在所述至少两电极和发声元件之间。
18.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,所述信号输入装置输入的信号 包括交流电信号或音频电信号。
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