[发明专利]一种版图设计方法和装置无效
申请号: | 200810057543.1 | 申请日: | 2008-02-02 |
公开(公告)号: | CN101499102A | 公开(公告)日: | 2009-08-05 |
发明(设计)人: | 罗晋;马亮;郭奕 | 申请(专利权)人: | 北京芯慧同用微电子技术有限责任公司 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 许 静 |
地址: | 100083北京市海淀区知春*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 版图 设计 方法 装置 | ||
1.一种版图设计方法,包括设计子版图和对所述子版图进行设计规则检查的步骤,其特征在于,包括:
根据第一设计规则,获取系统版图中所有图形之间的距离规则;
将所述距离规则转换成与版图边框相关的第二设计规则;
根据所述第一设计规则和所述第二设计规则,设计系统版图中的每个子版图;
对所述子版图进行设计规则检查。
2.根据权利要求1所述版图设计方法,其特征在于,所述第一设计规则为工艺厂商提供的设计规则。
3.根据权利要求1所述版图设计方法,其特征在于,所述距离规则是对所有可拼接的两个子版图中的图形之间的距离约束,所述图形位于版图的相同图层或不同图层上。
4.根据权利要求1或3所述版图设计方法,其特征在于,所述第二设计规则为:
将所述图形与版图边框之间的距离设置为不小于所述第一设计规则要求的距离的一半。
5.根据权利要求1所述版图设计方法,其特征在于,所述第二设计规则与第一设计规则格式相同。
6.根据权利要求1所述版图设计方法,其特征在于,根据所述第一设计规则和所述第二设计规则,设计系统版图中的每个子版图的方法具体为:
根据所述第二设计规则,在规定的图层中设计所述子版图的边框;
在具有所述边框的子版图上,根据所述第一设计规则设计所述子版图。
7.根据权利要求1所述版图设计方法,其特征在于,对所述子版图进行设计规则检查的方法具体为:
对所述子版图进行第一设计规则检查后,再进行第二设计规则检查;或
对所述子版图进行所述第二设计规则检查后,再进行所述第一设计规则检查;或
利用所述第一设计规则与所述第二设计规则合并后得到的第三设计规则,对所述子版图进行设计规则检查。
8.一种版图设计装置,其特征在于,包括:
获取模块,用于根据第一设计规则,获取系统版图中所有图形之间的距离规则;
转换模块,用于将所述距离规则转换成与版图边框相关的第二设计规则;
设计模块,用于根据所述第一设计规则和所述第二设计规则,设计系统版图中的每个子版图;
检查模块,用于对所述子版图进行设计规则检查。
9.根据权利要求8所述版图设计装置,其特征在于,所述第一设计规则为工艺厂商提供的设计规则。
10.根据权利要求8所述版图设计装置,其特征在于,所述距离规则是对所有可拼接的两个子版图中的图形之间的距离约束,所述图形位于版图的相同图层或不同图层上。
11.根据权利要求8或10所述版图设计装置,其特征在于,所述第二设计规则为:
将所述图形与版图边框之间的距离设置为不小于所述第一设计规则要求的距离的一半。
12.根据权利要求8所述版图设计装置,其特征在于,所述第二设计规则与第一设计规则格式相同。
13.根据权利要求8所述版图设计装置,其特征在于,所述设计模块进一步包括:
第一设计单元,用于根据所述第二设计规则,在规定的图层中设计所述子版图的边框;
第二设计单元,用于在具有所述边框的子版图上,根据所述第一设计规则设计所述子版图。
14.根据权利要求8所述版图设计装置,其特征在于,所述检查模块进一步包括:
第一检查单元,用于对所述子版图进行第一设计规则检查后,再进行第二设计规则检查;或
第二检查单元,用于对所述子版图进行第二设计规则检查后,再进行第一设计规则检查;或
第三检查单元,用于利用所述第一设计规则与所述第二设计规则合并后得到的第三设计规则,对所述子版图进行设计规则检查。
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