[发明专利]一种厚膜光刻胶清洗剂无效
申请号: | 200810032832.6 | 申请日: | 2008-01-18 |
公开(公告)号: | CN101487993A | 公开(公告)日: | 2009-07-22 |
发明(设计)人: | 史永涛;彭洪修;曹惠英;刘兵 | 申请(专利权)人: | 安集微电子(上海)有限公司 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42 |
代理公司: | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人: | 李佳铭 |
地址: | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光刻 洗剂 | ||
1.一种厚膜光刻胶清洗剂,其特征在于:其含有二甲基亚砜、氢氧化钾、醇胺类化合物、芳基烷基醇和/或其衍生物以及聚羧酸类化合物。
2.如权利要求1所述的清洗剂,其特征在于:所述的二甲基亚砜的含量为质量百分比1~97%。
3.如权利要求1所述的清洗剂,其特征在于:所述的氢氧化钾的含量为质量百分比0.1~5%。
4.如权利要求1所述的清洗剂,其特征在于:所述的醇胺类化合物选自一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、甲基二乙醇胺、二甲基乙醇胺和羟乙基乙二胺中的一种或多种。
5.如权利要求1所述的清洗剂,其特征在于:所述的醇胺类化合物的含量为质量百分比1~50%。
6.如权利要求1所述的清洗剂,其特征在于:所述的芳基烷基醇和/或其衍生物选自苯甲醇、苯乙醇、二苯甲醇、对氨基苯甲醇、邻氨基苯甲醇、甲基苯甲醇、二甲基苯甲醇、三甲基苯甲醇、邻苯二甲醇、间苯二甲醇、对苯二甲醇、甲基苯乙醇、对氨基苯乙醇、苯丙醇、苯丁醇、苯戊醇和苯己醇中的一种或多种。
7.如权利要求.1所述的清洗剂,其特征在于:所述的芳基烷基醇和/或其衍生物的含量为质量百分比1~50%。
8.如权利要求1所述的清洗剂,其特征在于:所述的聚羧酸类化合物选自聚丙烯酸类化合物及其衍生物、聚环氧琥珀酸类化合物及其衍生物、聚天冬氨酸类化合物及其衍生物和聚马来酸类化合物及其衍生物中的一种或多种。
9.如权利要求8所述的清洗剂,其特征在于:所述的聚羧酸类化合物选自聚丙烯酸及其共聚物、聚甲基丙烯酸及其共聚物、聚丙烯酸酯及其共聚物、聚甲基丙烯酸酯及其共聚物、聚丙烯酸醇胺盐及其共聚物、聚甲基丙烯酸醇胺盐及其共聚物、聚氧乙烯醚改性聚丙烯酸及其衍生物、聚氧乙烯醚改性聚甲基丙烯酸及其衍生物、聚氧乙烯醚改性聚环氧琥珀酸及其衍生物、聚氧乙烯醚改性聚天冬氨酸及其衍生物和聚氧乙烯醚改性聚马来酸及其衍生物中的一种或多种,
10.如权利要求1所述的清洗剂,其特征在于:所述的聚羧酸类化合物的分子量为500~100000。
11.如权利要求1所述的清洗剂,其特征在于:所述的聚羧酸类化合物的含量为质量百分比0.001~5%。
12.如权利要求1所述的清洗剂,其特征在于:所述的清洗剂还含有氨基唑类缓蚀剂、极性有机共溶剂、表面活性剂,以及除氨基唑类化合物和聚羧酸类化合物以外的其它缓蚀剂中的一种或多种。
13.如权利要求12所述的清洗剂,其特征在于:所述的氨基唑类缓蚀剂的含量为质量百分比0~5%;所述的极性有机共溶剂的含量为质量百分比0~50%;所述的表面活性剂的含量为质量百分比0~5%;所述的除氨基唑类化合物和聚羧酸类化合物以外的其它缓蚀剂的含量为质量百分比0~5%。
14.如权利要求13所述的清洗剂,其特征在于:所述的氨基唑类缓蚀剂的含量为质量百分比0.05~2.5%;所述的极性有机共溶剂的含量为质量百分比5~30%;所述的表面活性剂的含量为质量百分比0.05~3%;所述的除氨基唑类化合物和聚羧酸类化合物以外的其它缓蚀剂的含量为质量百分比0.05~3%。
15.如权利要求12所述的清洗剂,其特征在于:所述的氨基唑类缓蚀剂为3-氨基-1,2,4-三氮唑、4-氨基-1,2,4-三氮唑、5-氨基-四氮唑、1-甲基-5-氨基-四氮唑、3-氨基-5-巯基-1,2,4-三氮唑、2-氨基咪唑、2-氨基苯并咪唑、二氨基苯并咪唑、2-氨基噻唑、2-氨基苯并噻唑、2-氨基噁唑、2-氨基苯并噁唑、3-氨基吡唑、3-氨基咔唑、6-氨基吲唑、2-氨基-1,3,4-噻二唑、2-氨基-5-巯基-1,3,4-噻二唑和5-氨基-1,2,3-噻二唑中的一种或多种;所述的极性有机共溶剂选自亚砜、砜、咪唑烷酮和烷基二醇单烷基醚中的一种或多种;所述的表面活性剂选自聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮和聚氧乙烯醚中的一种或多种;所述的除氨基唑类化合物和聚羧酸类化合物以外的其它缓蚀剂选自胺类和/或除氨基唑类以外的唑类。
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