[发明专利]响应活化剂的胶体晶体阵列无效
申请号: | 200780051100.5 | 申请日: | 2007-11-08 |
公开(公告)号: | CN101622524A | 公开(公告)日: | 2010-01-06 |
发明(设计)人: | S·波迪;N·瓦尼尔;徐相凌;R·卡弗洛维奇 | 申请(专利权)人: | PPG工业俄亥俄公司 |
主分类号: | G01N21/77 | 分类号: | G01N21/77;G01N21/47 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 陈 宙 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 响应 活化剂 胶体 晶体 阵列 | ||
1.一种辐射衍射传感器,其包括:
在基底上形成的有序周期性颗粒阵列;和
涂布于所述颗粒阵列上的固体基质组合物;
其中所述基质组合物不是由水凝胶制成的,并且选择所述基质组 合物以响应活化剂,以至于对所述活化剂的暴露使由所述传感器衍射 的辐射的波长从第一波长移位至第二波长。
2.权利要求1的传感器,其中当从所述传感器处除去所述活化 剂时,所述被衍射的辐射的波长基本上恢复至第一波长。
3.权利要求1的传感器,其中所述基质包括响应水的亲水性丙 烯酸类聚合物。
4.权利要求1的传感器,其中所述基质包括响应有机溶剂的聚 合物。
5.权利要求1的传感器,其中所述基底为膜。
6.权利要求1的传感器,其中所述基底为微孔片。
7.权利要求1的传感器,其中所述基底为制品的表面。
8.权利要求7的传感器,其中所述表面为制品的包装和/或外 壳。
9.一种制备传感器的方法,其包括:
在基底上形成有序周期性颗粒阵列;
用固体基质组合物涂布所述颗粒阵列,所述基质组合物不是由水 凝胶制成的;和
固化所述固体基质组合物以将所述颗粒阵列固定在该基质内,其 中选择所述基质组合物以响应活化剂,以至于对所述活化剂的暴露使 由所述传感器衍射的辐射的波长移位至移位的波长。
10.权利要求9的方法,其中所述活化剂包括水。
11.权利要求10的方法,其中所述基质包括亲水性丙烯酸类聚合 物。
12.权利要求9的方法,其中所述活化剂包括有机溶剂。
13.权利要求12的方法,其中所述基质包括响应有机溶剂的聚合 物。
14.权利要求9的方法,其中所述移位的波长在可见光谱内。
15.权利要求9的方法,其中所述移位的波长在可见光谱外。
16.权利要求9的方法,其进一步包括从所述基底处除去所述传 感器。
17.权利要求16的方法,其进一步包括将所述传感器粉碎成颗粒 形式。
18.权利要求9的方法,其中所述活化剂包含对所述基质呈反应 性的官能团。
19.具有根据权利要求9的方法制成的传感器的制品。
20.一种鉴定制品的方法,其包括:
在基底上形成有序周期性颗粒阵列;
用非水凝胶基质涂布所述颗粒阵列;
固化所述基质以将所述颗粒阵列固定在该基质内,从而制成衍射 第一波长的辐射的传感器;
将所述传感器施用于制品;和
使所述传感器与活化剂接触,以至于所述活化剂使得衍射波长移 位,其中移位的衍射波长指示所述制品的真实性。
21.权利要求20的方法,其中所述移位的波长在可见光谱内。
22.权利要求20的方法,其中所述移位的波长在可见光谱外。
23.权利要求20的方法,其中所述基底为施加在所述制品上的 膜。
24.权利要求20的方法,其中所述基底为所述制品的表面。
25.权利要求20的方法,其中所述基底为微孔片。
26.权利要求20的方法,其进一步包括从所述传感器处除去所述 活化剂,以使得所述被衍射的辐射的波长基本上恢复至第一波长。
27.权利要求20的方法,其中所述制品为安全卡。
28.权利要求20的方法,其中所述基底为挠性的。
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