[发明专利]氧化锌多结光电池和光电器件无效
| 申请号: | 200780050169.6 | 申请日: | 2007-12-11 |
| 公开(公告)号: | CN101583742A | 公开(公告)日: | 2009-11-18 |
| 发明(设计)人: | 本梅·德科尔 | 申请(专利权)人: | 鲁门兹公司 |
| 主分类号: | C25D9/00 | 分类号: | C25D9/00 |
| 代理公司: | 上海天翔知识产权代理有限公司 | 代理人: | 刘粉宝 |
| 地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 氧化锌 光电池 光电 器件 | ||
1.一种ZnO组合物包括ZnxA1-xB1-yOy,其中x可以在0至1之间变化,且0≤y≤1,A选自相 关元素包括Mg、Be、Ca、Sr、Cd和In,和B选自相关元素包括Te和Se。
2.根据权利要求1所述的ZnO组合物,其中0.6≤x<1且0.7<y≤1。
3.根据权利要求2所述的ZnO组合物,其中,A、B、x、y被选择用于提供一具有带隙小于 或等于约1.9伏特的半导体。
4.根据权利要求3所述的ZnO组合物,其中,A包含Cd,B包含Te。
5.根据权利要求1所述的ZnO组合物,其中,所述组份是一p型导体材料。
6.根据权利要求5所述的ZnO组合物,其中,所述组份掺杂一选自下列组包括Au、Ag和K 的p型掺杂剂。
7.根据权利要求1所述的ZnO组合物,其中,所述组份是一n型导体材料。
8.根据权利要求7所述的ZnO组合物,其中,所述组份掺杂一选自下列组包括Al、Ga、In 的n型掺杂剂。
9.一种ZnO结晶薄膜层包含在一衬底上沉积的ZnxA1-xB1-yOy,其中,x可以在0至1之间变 化且0<y<1,A选自相关元素包括Mg、Be、Ca、Sr、Cd和In,和B选自相关元素包括 Te和Se。
10.根据权利要求9所述的ZnO结晶薄膜层,其中,0.7<y≤1。
11.根据权利要求9所述的ZnO结晶薄膜层,其中,所述层为一外延层。
12.根据权利要求9所述的ZnO结晶薄膜层,其中,所述衬底选自下列组包括ZnO、三价氮 化物、蓝宝石、硅、ScAlMg或玻璃衬底。
13.根据权利要求9所述的ZnO结晶薄膜层,其中,x、y、A和B被选择用于提供一小于约 1.9伏特的带隙。
14.根据权利要求9所述的ZnO结晶薄膜层,其中,A包含Cd,B包含Te。
15.根据权利要求9所述的ZnO结晶薄膜层,其中,所述组份是一p型导体材料。
16.根据权利要求15所述的ZnO结晶薄膜层,其中,所述组份掺杂一选自下列组包括Au、 Ag和K的p型掺杂剂。
17.根据权利要求9所述的ZnO结晶薄膜层,其中,所述组份是一n型导体材料。
18.根据权利要求17所述的ZnO结晶薄膜层,其中,所述组份掺杂一选自下列组包括Al、 Ga或In的n型掺杂剂。
19.一种具有至少一结的半导体光电器件,包括:
一n型半导体材料;
一被排列与所述n型半导体材料相接触的p型半导体材料;
其中每个n型半导体材料和p型半导体材料包括一ZnxA1-xOyB1-y(0≤x≤1)(0≤y≤1)形式的化 合物,其中A选自下列相关元素组包括Mg、Be、Ca、Sr、Ba、Mn、Cd和In,其中B 选自下列相关元素组包括Te和Se,其中每个x、y、A和B被选择用于提供一对应于所 选的所述光电器件吸收的光谱范围的结带隙。
20.根据权利要求19所述的半导体光电器件,其中,所述p型半导体材料包含一掺杂一选自 下列元素组包括Ag、Au和K的掺杂剂的半导体材料。
21.根据权利要求19所述的半导体光电器件,其中,所述n型半导体材料包含一掺杂一选自 下列元素组包括Al、In和As的掺杂剂的半导体材料。
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