[发明专利]回收和再利用工艺气体的方法和设备

权利要求书

1.一种回收工艺气体的方法，其包括：

在第一洗涤器中用水洗涤含工艺气体的排气流，得到第一洗涤流；

在第二洗涤器的催化剂床中用含水溶液洗涤第一洗涤流，得到第二洗涤流；

压缩该第二洗涤流；

在热交换器处理中干燥所述第二洗涤流；

过滤所述第二洗涤流，得到干燥的压缩流；

进一步干燥所述干燥的压缩流，得到超干流；

冷却所述超干流，得到富含工艺气体的液体回流流和工艺气体减少的蒸气流；

蒸馏所述液体回流流，回收基本上纯的工艺气体。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括处理所述蒸气流以回收痕量的工艺气体以及不含工艺气体的排出流。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述工艺气体是Xe、Kr、CF₄、C₂F₆、SF₆或NH₃。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述含水溶液是KOH、NaOH或H₂O₂。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述催化剂床是活性炭催化剂床或亲水活性炭催化剂床。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述进一步干燥包括在膜干燥器中干燥。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，一部分干燥的压缩流用作膜干燥器的吹扫气。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，还包括将用作吹扫气的干燥的压缩流返回到第一洗涤器中。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述进一步干燥包括使用吸附剂的压力变动吸附过程。

10.如权利要求1所述的方法，其特征在于，冷却所述超干流包括冷却到比工艺气体冰点高不到16℃的温度。

11.如权利要求10所述的方法，其特征在于，所述温度比工艺气体冰点高不到3℃。

12.如权利要求1所述的方法，其特征在于，蒸馏包括从液体回流流中汽提高挥发性杂质，得到基本上纯的液体回流流，还包括蒸发基本上纯的液体回流流，得到基本上纯的工艺气体。

13.如权利要求1所述的方法，其特征在于，蒸馏包括在第一蒸馏塔中除去高挥发性杂质，在第二蒸馏塔中除去低挥发性杂质。

14.如权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括处理所述蒸气流以分离任何痕量的工艺气体。

15.如权利要求14所述的方法，其特征在于，所述处理包括压力变动吸附过程或分子筛。

16.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述排气流来自半导体加工。

17.一种回收工艺气体的系统，其包括：

使用工艺气体并产生排气流的加工室；

接受排出气并产生第一洗涤流的第一洗涤器；

接受第一洗涤流并产生第二洗涤流的第二洗涤器；

接受第二洗涤流并产生压缩流的压缩器；

接受压缩流并产生干燥流的第一干燥器；

接受干燥流并产生干燥的过滤流的过滤器；

接受干燥的过滤流并产生超干流的第二干燥器；和

蒸馏装置，其包括冷凝器，用于接受超干流并产生富含工艺气体的液体回流流和工艺气体减少的蒸气流。

18.如权利要求17所述的系统，其特征在于，所述加工室是半导体器件加工室。

19.如权利要求17所述的系统，其特征在于，所述第一洗涤器是水洗涤器。

20.如权利要求17所述的系统，其特征在于，所述第二洗涤器是具有催化剂床的碱洗涤器。

21.如权利要求20所述的系统，其特征在于，所述催化剂床是活性炭催化剂床或亲水活性炭催化剂床。

22.如权利要求17所述的系统，其特征在于，所述第二干燥器是膜干燥器。