[发明专利]双折射薄膜的制造方法、双折射薄膜及层叠体

权利要求书

1、一种双折射薄膜的制造方法，其包括：

工序(1)：配制含有至少1种多环式化合物和溶剂且显示向列液晶相的 溶液，所述多环式化合物含有-SO₃M基及/或-COOM基，M表示平衡离子；

工序(2)：准备至少一个表面被亲水化处理的基材；以及

工序(3)：在所述工序(2)所准备的基材的被亲水化处理后的表面，涂布 所述工序(1)所配制的溶液并使其干燥；

其中，使所述工序(2)所准备的基材的被亲水化处理后的表面在23℃ 时水的接触角在45°以下。

2、如权利要求1所述的制造方法，其中，

所述亲水化处理是选自电晕放电处理、等离子体处理、超音波清洗处 理、碱处理及结合层处理中的至少1种。

3、如权利要求1或2所述的制造方法，其中，

所述基材是玻璃基板或高分子薄膜。

4、如权利要求1～3中任一项所述的制造方法，其中，

所述多环式化合物含有通式(1)所示的苊并[1，2-b]喹喔啉衍生 物，

式中，k、l分别独立地表示0～4的整数，m、n分别独立地表示0～6 的整数，M表示平衡离子，其中，k、l、m及n不同时为0。

5、一种双折射薄膜，

其是利用权利要求1～4中任一项所述的制造方法而得到的。

6、如权利要求5所述的双折射薄膜，其中，

折射率椭圆体满足nx＞nz＞ny的关系。

7、如权利要求5或6所述的双折射薄膜，其中，

所述双折射薄膜的厚度是0.05μm～10μm。

8、一种层叠体，

其至少具有权利要求5～7中任一项所述的双折射薄膜和偏振片。