[发明专利]液体处理装置、空调装置以及加湿器有效
| 申请号: | 200780021884.7 | 申请日: | 2007-06-14 |
| 公开(公告)号: | CN101466465A | 公开(公告)日: | 2009-06-24 |
| 发明(设计)人: | 茂木完治;大堂维大;田中利夫;秋山竜司 | 申请(专利权)人: | 大金工业株式会社 |
| 主分类号: | B01J19/08 | 分类号: | B01J19/08;F24F6/14;C02F1/48;F24F13/22;F24F6/00 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 党晓林 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 液体 处理 装置 空调 以及 加湿器 | ||
技术领域
本发明涉及一种处理液体的液体处理装置、具有该液体处理装置的 空调装置以及加湿器。
背景技术
迄今为止,对处理液进行净化等的液体处理装置已广为人知。例如 在专利文献1中,公开了一种对回收到空调装置的滴水盘中的冷凝水进 行净化的液体处理装置。
在该空调装置中,室内机组内设置有热交换器。若被处理空气在该 热交换器中被冷却,则空气中的水分凝结而产生冷凝水。由此,在此种 空调装置中,在热交换器的下侧设置有用来回收冷凝水的滴水盘(drain pan)。
此外,一旦冷凝水在该滴水盘内长时间积存下来,则冷凝水中的细 菌繁殖,成为冷凝水的水质污染和产生难闻气味的原因。由此,在专利 文献1中,利用紫外线对滴水盘内所积存的冷凝水进行净化。
具体来说,在该空调装置中,在滴水盘的附近设置有紫外线照射装 置。若从紫外线照射装置向冷凝水照射紫外线,则将对冷凝水施行杀菌 处理。其结果是在该空调装置中,能够实现冷凝水的水质净化,还能抑 制冷凝水产生难闻气味。
专利文献1:日本专利公开2004-108685号公报
(发明所要解决的课题)
如专利文献1所示当利用紫外线处理冷凝水时,对于冷凝水的杀菌 能力和净化能力是有限的,还有由于紫外线照射装置较大,因而有导致 空调装置大型化之虞。还有,虽然在滴水盘内的表面实施抗菌处理、或 在冷凝水中添加药剂进行杀菌处理的方法也已为人所知,不过由于其杀 菌能力的持久性是有限的,所以无法长期确保冷凝水的水质。如上所述, 在冷凝水等液体处理领域中,需要的是一种杀菌能力和液体净化能力强 且小型化的液体处理装置。
发明内容
本发明是鉴于所述问题的发明,其目的在于:提供一种具有极高净 化能力的液体处理装置。
(解决课题的方法)
第一方面的发明以对处理液32a进行净化的液体处理装置为前提。 并且,其特征在于:该液体处理装置包括喷出处理液32a的喷出器32、 朝从该喷出器32喷出的处理液32a产生放电的放电电极31、和使从所述 喷出器32喷出的处理液32a和所述放电电极31之间产生电位差的电源 33。
在第一方面的发明中,电源33使喷出器32喷出的处理液32a和放 电电极31之间产生电位差。其结果是从放电电极31向喷出器32所喷出 的处理液32a产生放电。伴随该放电而在空气中生成自由基(radical)等活 性种。该活性种一旦被处理液32a吸收,则在处理液32a中进行杀菌, 同时处理液32a中的污染物质被氧化分解。其结果是处理液32a得到净 化。
第二方面的发明是在第一方面发明的基础上的发明,其特征在于: 产生流光放电。
在第二方面的发明中,从放电电极31向喷出器32喷出的处理液32a 产生流光放电。与其它放电(例如辉光放电和电晕放电)相比,在流光放电 中由于放电电场的电场密度变高,所以伴随放电在空气中生成的活性种 的量也增加。此外,在该流光放电中,作为活性种,生成了高速电子、 离子、臭氧、羟自由基等自由基、其它的受激分子(excited molecule)(受 激氧分子、受激氮分子、受激水分子等)。这些活性种一旦被处理液32a 吸收,则在处理液32a中有效地进行杀菌,还有处理液32a中的污染物 质被有效地氧化分解。
第三方面的发明是在第一或第二方面发明的基础上的发明,其特征 在于:所述喷出器32构成为使所述处理液呈粒子状液滴32a的形态喷出。
在第三方面的发明中,处理液32a成为微细的粒子状液滴从喷出器 32喷出。从放电电极31向该粒子状液滴32a展开放电。
具体来说,当例如以放电电极31为正极侧而以喷出器32为负极侧 来进行流光放电时,从喷出器32喷出带负电荷的液滴32a。从该液滴32a 向带正电荷的放电电极31产生电子雪崩,液滴32a失去负电荷。另一方 面,带正电荷的被称为先导(leader)的微小电弧从放电电极31扩展,该微 小电弧到达液滴32a。如上所述,在流光放电中反复进行下述循环,即: 电子雪崩的生成→先导形成→先导消失→电子雪崩的生成→……。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大金工业株式会社,未经大金工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780021884.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于半固体泥浆的喷枪
- 下一篇:水净化过滤器组件





