[发明专利]用于流体分析仪的三晶片通道结构

权利要求书

1.一种用于流体分析仪的通道构件，包括：

第一晶片；

位于所述第一晶片上的第二晶片；

位于所述第二晶片上的膜片；

位于所述膜片上的第三晶片；

位于所述膜片上的所述流体分析仪的固定相；

位于所述第三晶片中的用于接收样品流的第一通道，其具有面向 所述固定相的敞开侧；和

位于所述第一晶片中的用于接收所述样品流的第二通道，其具有 面向所述膜片的敞开侧；

其中所述膜片具有位于所述第一通道和所述第二通道之间的开 口，所述开口大体上垂直于所述样品流的流动进行延伸。

2.根据权利要求1所述的构件，其特征在于，所述构件还包括 位于所述膜片中邻近所述固定相的加热器。

3.根据权利要求2所述的构件，其特征在于，所述膜片中的开 口使所述第一通道和所述第二通道中的压力平衡，并且抑制在受热膜 片和其中至少一个通道的一个或多个壁之间的热传导。

4.根据权利要求1所述的构件，其特征在于，所述构件还包括：

位于所述膜片中的检测器；且

其中，所述检测器具有面向所述第一通道和面向所述第二通道的 检测区域。

5.根据权利要求1所述的构件，其特征在于，包括所述第一晶 片、所述第二晶片、所述第三晶片和所述膜片的所述构件中的至少一 个元件包括比硅更低的热导率的材料。

6.一种用于流体流的分析仪的构件，包括：

中间晶片，其具有沿着所述中间晶片的伸长尺寸而定位的开口；

支承部件，其定位成邻近所述中间晶片的开口，并具有与所述中 间晶片的伸长尺寸大致平行的伸长尺寸；

顶盖晶片，其具有沿着所述顶盖晶片的伸长尺寸与所述中间晶片 的伸长尺寸大致平行的通道，且所述通道具有沿着所述中间晶片的伸 长尺寸的开口，并且使得所述通道的开口面向所述支承部件；和

底盖晶片，其定位成邻近所述中间晶片并且覆盖所述中间晶片的 开口的一侧，所述开口的一侧与所述中间晶片的开口面向所述顶盖晶 片的通道的一侧相反；

其中所述支承元件具有至少一个穿孔，其位于所述顶盖的通道和 所述中间晶片的开口之间，所述穿孔大体上垂直于样品流的流动进行 延伸。

7.根据权利要求6所述的构件，其特征在于，所述构件还包括：

至少一个位于所述支承部件中的加热元件；和

至少一个邻近所述加热元件的交互式元件。

8.根据权利要求7所述的构件，其特征在于：

所述支承部件的表面和所述交互式元件的表面可曝露于样品流 体中；以及

所述支承部件中的检测器可具有活动的检测区域，所述检测区域 邻近所述支承部件的表面，其面向所述顶盖的通道之间的开口，并且 所述检测区域邻近面向所述中间晶片的开口的表面。

9.根据权利要求6所述的构件，其特征在于：

所述支承部件利用选自粘性聚合物、焊料金属以及形成阳极结合 的元件的材料而结合到所述中间晶片上；

所述顶盖晶片利用选自粘性聚合物、焊料金属以及形成阳极结合 的元件的材料而结合到所述支承部件上；且

所述底盖晶片利用选自粘性聚合物、焊料金属以及形成阳极结合 的元件的材料而结合到所述中间晶片上。

10.根据权利要求6所述的构件，其特征在于：

所述通道具有入口和出口；

所述入口具有联接到其上的第一毛细管；以及

所述出口具有联接到其上的第二毛细管。