[发明专利]产生包含比例减少的散射辐射的X射线图像无效

专利信息
申请号: 200780012764.0 申请日: 2007-03-28
公开(公告)号: CN101421799A 公开(公告)日: 2009-04-29
发明(设计)人: B·施魏策尔;M·奥弗迪克 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G21K1/02 分类号: G21K1/02
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 王 英
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 产生 包含 比例 减少 散射 辐射 射线 图像
【权利要求书】:

1、一种产生包含比例减少的散射辐射的X射线图像的方法,包括以下步骤:

a.通过第一X射线探测器(41)来探测X射线辐射以便产生第一图像(I1),

b.通过布置为与所述第一X射线探测器有一定距离的第二X射线探测器(42)来探测穿过所述第一X射线探测器(41)中的开口(410)的X射线辐射,

c.组合来自所述两个X射线探测器(41,42)的信号以产生包含与所述第一图像(I1)相比而言比例减少的散射辐射的X射线图像(I)。

2、如权利要求1所述的方法,其中,来自所述第二X射线探测器(42)中经过所述开口(410)由散射辐射而非初级辐射撞击的那些探测器元件(422)的信号被用来确定在所述第一图像(I1)中包含的散射辐射。

3、如权利要求1所述的方法,其中,来自经过所述开口由初级辐射撞击的探测器元件(421)的信号被用来填充由所述第一X射线探测器(41)中的所述开口在所述图像中造成的间隙。

4、一种用于实现如权利要求1所述的方法的X射线装置,包括:

a.X射线辐射源(1),

b.探测器布置(4),用于探测所述X射线辐射源(1)所发射的X射线辐射,所述探测器布置包括布置为相对于彼此有一定距离的第一和第二X射线探测器(41,42),所述第一X射线探测器(41)具有开口(410),经过所述开口X射线辐射撞击所述第二X射线探测器(42)的单独探测器元件(421,422),以及

c.用于组合由所述X射线探测器(41,42)供应的信号以产生包含比例减少的散射辐射的X射线图像的设备(6)。

5、如权利要求4所述的X射线装置,其中,在它与所述第二X射线探测器(42)相邻的、除了所述开口(410)的区域之外的一侧上,所述第一X射线探测器(41)具有主要由吸收X射线辐射的材料制成的层(412)。

6、如权利要求4所述的X射线装置,其中,所述第一X射线探测器(41)以圆锥形状在所述开口周围呈斜面、由此使所述散射辐射能够在很大程度上不受影响地穿过所述开口。

7、特别地如权利要求4所述的X射线装置,其中,至少所述第一X射线探测器(41)由通过狭缝形式的开口来彼此分离的多个子探测器组装。来自所述第二X射线探测器(42)中由初级辐射撞击的那些探测器元件的信号被用来补充由所述第一X射线探测器(41)探测的X射线图像。

8、如权利要求7所述的X射线装置,具有用于抑制在所述开口的纵向方向上散射的散射辐射的Bucky型条带,所述条带布置于所述两个X射线探测器(41,42)之间并且与所述开口垂直地延伸。

9、一种用于如根据权利要求4所述的X射线装置的探测器布置,所述布置包括布置为彼此有一定距离的两个X射线探测器(41,42),所述X射线探测器之一具有在空间上均匀分布的开口。

10、如权利要求9所述的探测器布置,其中,至少是具有开口的所述X射线探测器(41,42)具有闪烁物晶体层,并且其中,所述开口用透射X射线辐射的导光物质来填充。

11、如权利要求9所述的探测器布置,其中,所述两个X射线探测器(41,42)的探测器元件具有相同尺寸。

12、如权利要求9所述的X射线探测器,其中,具有开口的所述第一X射线探测器(41)的探测器元件尺寸以如下方式略小于所述第二X射线探测器(42)的探测器元件尺寸,使得当在X射线装置中使用时,所述第二X射线探测器(42)的探测器元件尺寸大于所述第一X射线探测器(41)的探测器元件尺寸的数量至少与在所述第二X射线探测器(42)和所述X射线辐射源的焦点之间的距离大于在所述第一探测器(41)的情况下的对应距离的数量近似地相同。

13、如权利要求9所述的X射线探测器,其中,所述第二X射线探测器(42)仅在可以经过所述第一探测器(42)中的所述开口(410)由X射线辐射撞击的那些区域中才具有探测器元件(421,422)。

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