[发明专利]室内粒子侦测系统有效
| 申请号: | 200780012544.8 | 申请日: | 2007-02-07 |
| 公开(公告)号: | CN101427123A | 公开(公告)日: | 2009-05-06 |
| 发明(设计)人: | 马克·赖特 | 申请(专利权)人: | 朗姆研究公司 |
| 主分类号: | G01N15/02 | 分类号: | G01N15/02 |
| 代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 章社杲;吴贵明 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 室内 粒子 侦测 系统 | ||
1.一种用于半导体处理室的原位室内粒子监测组件,包括:
至少一个激光光源,其中该至少一个激光光源可以在处 理室内的室处理体积内扫描激光光;
多个激光光收集器,其中该多个激光光收集器可以收集 由该至少一个激光光源发出的激光光,其中该多个激光光收集 器被设置为没有激光光收集器共享公共轴线;和
位于处理室外部的分析器,分析代表由该多个激光光收 集器收集的激光光的信号以提供室内粒子信息。
2.根据权利要求1所述的原位室内粒子监测组件,其中该室内粒 子信息包括粒子数量、粒子尺寸和粒子位置。
3.根据权利要求1所述的原位室内粒子监测组件,其中室内粒子 信息包括代表室处理体积内的粒子分布的三维图像。
4.根据权利要求1所述的原位室内粒子监测组件,其中该至少一 个激光光源和该至少一个激光光收集器两者的至少部分嵌在 室壁内。
5.根据权利要求1所述的原位室内粒子监测组件,其中该至少一 个激光光源和该至少一个激光光收集器两者的至少部分嵌在 处理室衬垫内。
6.根据权利要求1所述的原位室内粒子监测组件,其中该室处理 体积围绕限定在处理室内的基片支撑件上的平面。
7.一种具有原位室内粒子监测组件以确认室内粒子源的处理室, 包括:
位于处理室内的基片支撑件;
设置于该基片支撑件上方的处理室顶板;
至少一个激光光源,其中该至少一个激光光源可以在处 理室内的室处理体积内扫描激光光,该室处理体积被限定在该 基片支撑件和该处理室顶板之间;
多个激光光收集器,其中该多个激光光收集器可以收集 由至少一个激光光源发出的激光光,其中该多个激光光收集器 被设置为没有激光光收集器共享公共轴线;和
位于该处理室外部的分析器,分析代表由该多个激光光 收集器收集的激光光的信号以提供室内粒子信息。
8.根据权利要求7所述的处理室,其中所述原位室内粒子监测组 件至少有两个激光光源,该至少两个激光光源彼此分开设置以 向该处理室提供光源。
9.根据权利要求7所述的处理室,其中该至少一个激光光源和该 至少一个激光光收集器两者的至少部分嵌在室壁内。
10.根据权利要求7所述的处理室,其中室壁限定在该基片支撑件 周围,且在该室壁内设置衬垫。
11.根据权利要求10所述的处理室,其中该至少一个激光光源和 该至少一个激光光收集器两者的至少部分嵌在该处理室衬垫 内。
12.根据权利要求10所述的处理室,其中有多个处理室衬垫,该 至少一个激光光和该至少一个激光光收集器两者的至少部分 嵌在多个处理室衬垫内。
13.根据权利要求11所述的处理室,其中有3个激光光源和3个 光源收集器。
14.一种原位收集室内粒子信息的方法,包括:
在处理室的处理体积内扫描由激光光源发出的激光光;
由多个激光光收集器收集该处理室内的激光光;
调整该多个激光光收集器的方位,使得没有激光光收集 器共享公共轴线;和
分析该收集来的激光光以确定处理室内粒子信息。
15.根据权利要求14所述的方法,其中该处理体积被限定在处理 室顶板和基片支撑件之间。
16.根据权利要求14所述的方法,进一步包括:
将该激光光源和该多个激光光收集器嵌在室壁内。
17.根据权利要求14所述的方法,进一步包括将该激光光源和该 多个激光光收集器嵌在处理室衬垫内。
18.根据权利要求17所述的方法,其中具有该激光光源和多个激 光光收集器的该处理室衬垫是可移除的。
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