[发明专利]室内粒子侦测系统有效

专利信息
申请号: 200780012544.8 申请日: 2007-02-07
公开(公告)号: CN101427123A 公开(公告)日: 2009-05-06
发明(设计)人: 马克·赖特 申请(专利权)人: 朗姆研究公司
主分类号: G01N15/02 分类号: G01N15/02
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 章社杲;吴贵明
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 室内 粒子 侦测 系统
【权利要求书】:

1.一种用于半导体处理室的原位室内粒子监测组件,包括:

至少一个激光光源,其中该至少一个激光光源可以在处 理室内的室处理体积内扫描激光光;

多个激光光收集器,其中该多个激光光收集器可以收集 由该至少一个激光光源发出的激光光,其中该多个激光光收集 器被设置为没有激光光收集器共享公共轴线;和

位于处理室外部的分析器,分析代表由该多个激光光收 集器收集的激光光的信号以提供室内粒子信息。

2.根据权利要求1所述的原位室内粒子监测组件,其中该室内粒 子信息包括粒子数量、粒子尺寸和粒子位置。

3.根据权利要求1所述的原位室内粒子监测组件,其中室内粒子 信息包括代表室处理体积内的粒子分布的三维图像。

4.根据权利要求1所述的原位室内粒子监测组件,其中该至少一 个激光光源和该至少一个激光光收集器两者的至少部分嵌在 室壁内。

5.根据权利要求1所述的原位室内粒子监测组件,其中该至少一 个激光光源和该至少一个激光光收集器两者的至少部分嵌在 处理室衬垫内。

6.根据权利要求1所述的原位室内粒子监测组件,其中该室处理 体积围绕限定在处理室内的基片支撑件上的平面。

7.一种具有原位室内粒子监测组件以确认室内粒子源的处理室, 包括:

位于处理室内的基片支撑件;

设置于该基片支撑件上方的处理室顶板;

至少一个激光光源,其中该至少一个激光光源可以在处 理室内的室处理体积内扫描激光光,该室处理体积被限定在该 基片支撑件和该处理室顶板之间;

多个激光光收集器,其中该多个激光光收集器可以收集 由至少一个激光光源发出的激光光,其中该多个激光光收集器 被设置为没有激光光收集器共享公共轴线;和

位于该处理室外部的分析器,分析代表由该多个激光光 收集器收集的激光光的信号以提供室内粒子信息。

8.根据权利要求7所述的处理室,其中所述原位室内粒子监测组 件至少有两个激光光源,该至少两个激光光源彼此分开设置以 向该处理室提供光源。

9.根据权利要求7所述的处理室,其中该至少一个激光光源和该 至少一个激光光收集器两者的至少部分嵌在室壁内。

10.根据权利要求7所述的处理室,其中室壁限定在该基片支撑件 周围,且在该室壁内设置衬垫。

11.根据权利要求10所述的处理室,其中该至少一个激光光源和 该至少一个激光光收集器两者的至少部分嵌在该处理室衬垫 内。

12.根据权利要求10所述的处理室,其中有多个处理室衬垫,该 至少一个激光光和该至少一个激光光收集器两者的至少部分 嵌在多个处理室衬垫内。

13.根据权利要求11所述的处理室,其中有3个激光光源和3个 光源收集器。

14.一种原位收集室内粒子信息的方法,包括:

在处理室的处理体积内扫描由激光光源发出的激光光;

由多个激光光收集器收集该处理室内的激光光;

调整该多个激光光收集器的方位,使得没有激光光收集 器共享公共轴线;和

分析该收集来的激光光以确定处理室内粒子信息。

15.根据权利要求14所述的方法,其中该处理体积被限定在处理 室顶板和基片支撑件之间。

16.根据权利要求14所述的方法,进一步包括:

将该激光光源和该多个激光光收集器嵌在室壁内。

17.根据权利要求14所述的方法,进一步包括将该激光光源和该 多个激光光收集器嵌在处理室衬垫内。

18.根据权利要求17所述的方法,其中具有该激光光源和多个激 光光收集器的该处理室衬垫是可移除的。

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