[发明专利]用于改进电子装置制造系统的操作的方法与设备

权利要求书

1.一种用于操作电子装置制造系统以与一个或多个除污单元一起使用的方法， 包含：

提供具有第一测量仪器的参考电子装置制造系统和具有第二测量仪器的生产 电子装置制造系统，其中所述第一测量仪器不同于所述第二测量仪器；

用所述第一测量仪器测量关于生产电子装置制造系统的参考电子装置制造系 统的参考参数；

用所述第二测量仪器测量关于所述生产电子装置制造系统的生产参数以提供 生产信息；

基于所述生产信息选择参考信息；

使用所述测量的参考参数产生信息；以及

基于所述参考信息，分析该产生的信息以预测该生产电子装置制造系统的至 少一参数，其中分析该产生的信息至少包括以下步骤之一：

预测关于该生产电子装置制造系统的一流出物的一参数；

比较所述生产参数与所述参考参数；及

选择一函数，所述函数基于所述生产参数的测量而预测来自该生产电子装 置制造系统的至少一参数；

基于所述预测操作所述除污单元，

其中，所述参考电子装置制造系统包括不在所述生产电子装置制造系统中使 用的至少一个仪器。

2.如权利要求1所述的方法，其中测量生产电子装置制造系统的参数包括：

测量时间t1时的一第一至少一参数；

测量时间t2时的一第二至少一参数；以及

比较所述第一至少一参数与所述第二至少一参数。

3.如权利要求2所述的方法，其中比较所述第一至少一参数与所述第二至少一 参数以生成指示所述生产电子装置制造系统的变化的差异数据。

4.如权利要求3所述的方法，其中比较所述第一至少一参数与所述第二至少一 参数以生成指示所述生产电子装置制造系统的变化的整合数据。

5.一种用于操作电子装置制造系统以与一个或多个除污单元一起使用的方法， 包含：

提供具有第一测量仪器的参考电子装置制造系统和具有第二测量仪器的生产 电子装置制造系统，其中所述第一测量仪器不同于所述第二测量仪器；

测量来自生产电子装置制造系统的生产参数；

使用一程序比较所述生产参数与关于参考系统的一数据库的参考参数；以及

基于该比较预测该生产电子装置制造系统的组件的至少一参数，

基于所述预测操作所述除污单元，

其中，所述参考电子装置制造系统包括不在所述生产电子装置制造系统中使 用的至少一个仪器。

6.如权利要求5所述的方法，其中测量来自生产电子装置制造系统的所述生产 参数包括接收来自控制器的信息。

7.如权利要求5所述的方法，其中测量来自生产电子装置制造系统的所述生产 参数包括接收来自传感器的信息。

8.如权利要求5所述的方法，其中预测该生产电子装置制造系统的组件的至少 一参数包括：

测量时间t1时的一第一至少一参数；

测量时间t2时的一第二至少一参数；以及

比较所述第一至少一参数与所述第二至少一参数，

其中比较所述第一至少一参数与所述第二至少一参数以生成指示所述生产电 子装置制造系统的变化的差异数据，且其中所述差异数据被用于预测该生产电子装 置制造系统的组件的维护需求。

9.如权利要求5所述的方法，其中预测该生产电子装置制造系统的组件的至少 一参数包括：

测量时间t1时的一第一至少一参数；

测量时间t2时的一第二至少一参数；以及

比较所述第一至少一参数与所述第二至少一参数，

其中，比较所述第一至少一参数与所述第二至少一参数以生成指示所述生产 电子装置制造系统的变化的整合数据。