[发明专利]用于微光刻投影曝光设备的照射系统

权利要求书

1.一种用于微光刻投影曝光设备的照射系统，包括：

a)光源(30)；

b)光学积分器(56)，其包括第一光学子元件(561X、561Y、562X、562Y) 并且产生多个二次光源(82)，每个二次光源(82)发射光束；

c)聚光器(62)，其使得所述光束在掩模面(70)中重叠；以及

d)至少一个散射结构(58、60)，其包括设置在所述二次光源后面的多个 第二光学子元件，

其中至少两个第二光学子元件具有不同的内部结构。

2.根据权利要求1的照射系统，其中所述第一和第二光学子元件被配置 使得由相同辐照分布照射的光学子元件被隔开10mm以上。

3.根据权利要求2的照射系统，其中所述第一和第二光学子元件被配置 使得由相同辐照分布照射的光学子元件被隔开20mm以上。

4.根据权利要求1的照射系统，其中所述第一和第二光学子元件被配置 使得没有光学子元件由相同辐照分布照射。

5.根据前述权利要求中任一项的照射系统，其中所述光学积分器(56)被 接纳在交换保持器(57)中。

6.根据前述权利要求1-4中任一项的照射系统，其中所述光学积分器 (56)是复眼积分器，其包括第一积分器部件(561)和第二积分器部件(562)，每个 所述部件包括多个第一光学子元件(561X、561Y、562X、562Y)，其中所述 第一光学子元件(561X、561Y、562X、562Y)具有聚焦效应。

7.根据权利要求6的照射系统，其中所述第一积分器部件(561)的第一 光学子元件(561X、561Y)具有第一焦平面，在所述第一焦平面中设置有所述 第二积分器部件(562)的第一光学子元件(562X、562Y)。

8.根据权利要求6的照射系统，其中所述第二积分器部件(562)的第一 光学子元件(562X、562Y)具有第二焦平面，在所述第二焦平面中设置有所述 第一积分器部件(561)的第一光学子元件(561X、561Y)。

9.根据权利要求6的照射系统，其中，所述第一积分器部件(561)和所 述第二积分器部件(562)每个包括：X方向第一光学子元件(561X、562X)，其 仅在X方向具有折射光焦度；和Y方向第一光学子元件(561Y、562Y)，其仅 在与X方向垂直的Y方向具有折射光焦度。

10.根据权利要求9的照射系统，其中Y方向是所述微光刻投影曝光设 备(10)的扫描方向。

11.根据权利要求9的照射系统，其中所述第一积分器部件(561)的所述 X方向第一光学子元件(561X)和所述Y方向第一光学子元件(561Y)被设置在 第一积分器支持件的相对侧上，并且，其中所述第二积分器部件(562)的所述 X方向第一光学子元件(562X)和所述Y方向第一光学子元件(562Y)被设置在 第二积分器支持件的相对侧上。

12.根据权利要求9的照射系统，其中，两个积分器部件的所述X方向 第一光学子元件(561X、562X)彼此面对。

13.根据权利要求11的照射系统，其中所述第一和第二积分器支持件由 氟石晶体制成。

14.根据权利要求11的照射系统，其中，所述支持件具有在厚度和直径 之间的超过0.01的比值。

15.根据权利要求11的照射系统，其中，所述第一积分器部件(1561)的 所述X方向第一光学子元件(1561X)面向所述第二积分器部件(1562)的所述 Y方向第一光学子元件(1562Y)。

16.根据权利要求15的照射系统，其中至少所述第一积分器支持件由玻 璃制成。

17.根据权利要求16的照射系统，其中所述玻璃是SiO₂玻璃。